上海新阳:光刻胶项目开始中试准备 中芯国际是公司重要客户之一

大比特商务网 20200623

  • 光刻胶
  • 半导体材料
日前,上海新阳在投资者关系互动平台表示公司合肥第二基地建设与原计划相比略有延后,预计9月份开工建设,值得一提的是,上海新阳光刻胶项目已完成实验室研发阶段,开始中试准备,并且公司多款晶圆制造用工艺材料已成为中芯国际的基准材料。

  日前,上海新阳在投资者关系互动平台表示公司合肥第二基地建设与原计划相比略有延后,预计9月份开工建设,值得一提的是,上海新阳光刻胶项目已完成实验室研发阶段,开始中试准备,并且公司多款晶圆制造用工艺材料已成为中芯国际的基准材料。


  上海新阳在投资者关系互动平台表示,受疫情影响,公司合肥第二基地建设与原计划相比略有延后,预计9月份开工建设。该项目主要从事用于芯片制程使用的关键工艺材料的研发、生产和销售,总投资金额约为6亿元。

  今年年初,上海新阳被评审为“上海市重点实验室”,重点实验室研发主攻方向为集成电路制造用关键工艺材料,包括光刻胶、铜互连电镀工艺材料、蚀刻后清洗液和研磨后清洗液等。公司光刻胶项目已制定产品路线图。

  据了解,上海新阳购买了三台光刻机,目前已有一台到厂运行。根据公司光刻胶项目进度的需要,今年会加大对光刻胶项目的投入。

  目前,上海新阳光刻胶项目已完成实验室研发阶段,开始中试准备。上海新阳称,中芯国际是公司重要客户之一,公司多款晶圆制造用工艺材料已成为中芯国际的基准材料。

  关于未来战略布局,上海新阳表示,公司将始终坚持以技术为主导,坚持瞄准国际前沿技术,面向全球产业需求,突破国际技术垄断,填补国内技术空白,持续进行技术创新与产品研发。专注于半导体关键工艺材料与技术的研发创新,致力于为用户提供关键材料、配套设备、工艺技术和现场服务一体化的整体解决方案,使公司由材料产品提供商向工艺技术服务商转型升级,提升公司行业知名度和品牌影响力,努力将公司建设成为中国半导体关键工艺材料与技术第一品牌。

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