ASML与三星签署谅解备忘录，共同投资 1 万亿韩元在韩国建立研发中心

12 月 12 日消息，当地时间周二，三星电子董事长李在镕携手 SK 集团董事长崔泰元访问 ASML 荷兰总部，并与 ASML 以及韩国总统尹锡悦就半导体芯片联盟事宜进行探讨。

今日晚间，ASML 宣布与三星电子签署备忘录，将共同投资 1 万亿韩元（IT之家备注：当前约 54.5 亿元人民币）在韩国建立研究中心，并将利用下一代极紫外（EUV）光刻机研究超精细半导体制造工艺。

同时，ASML 还宣布与 SK 海力士签署 ESG 谅解备忘录，就环境、社会和公司治理项目展开合作。

值得一提的是，上个月初还有消息称三星在五年内从 ASML 采购 50 套设备，每台单价约为 2000 亿韩元，总价值可达 10 万亿韩元（当前约 545 亿元人民币）。

三星电子于去年 6 月推出了全球首个采用全栅极（GAA）技术的 3nm 代工技术，因此该公司一直在努力确保采购更多 EUV 光刻设备，目标是在明年上半年进入 3nm 世代的第二代工艺，在 2025 年进入 2nm 工艺，在 2027 年进入 1.4nm 工艺。

正因如此，李在镕董事长去年 6 月访问了 ASML 总部，与首席执行官 Peter Bennink 讨论了 EUV 采购问题，并在同年 11 月访问韩国期间与 Bennink 进行了进一步会谈。鉴于 EUV 的交付周期（从下单到收货）至少需要一年，这些会议看起来确实取得了实际成果。

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