创新模型工厂、精密仪器联合工程中心项目研发取得新突破
国产电子束光刻机是实现我国集成电路产业链自主可控的重要组成部分。近日，松山湖材料实验室精密仪器联合工程中心工业化项目研发取得新突破：项目团队成功开发了电子束光刻系统，在独立电子束光刻机开发和工业化过程中取得了阶段性进展，初步实现了电子束光刻机的独立控制，标志着国内电子束光刻机研发和工业化的关键一步。
电子束光刻是利用聚焦电子束曝光某些聚合物聚合物（电子束光刻胶）并通过显影获取图形的过程。产生聚焦电子束并根据设定的图形扫描聚焦电子束的仪器称为电子束光刻机。它是促进我国新材料、前沿物理研究、半导体、微电子、光子、量子研究的重要手段之一。此前，全球电子束光刻机市场高度集中，主要由美国和日本企业垄断。中国尚未掌握该领域的核心技术，设备长期依赖进口。
松山湖材料实验室精密仪器研发团队作为首批进入实验室的团队之一，专注于材料和半导体领域的精密加工、表征和测量设备的研发。团队负责人徐志从事相关研究近20年，参与国家重点研发计划和国家重大科研设备研发项目，近5年领导工业化团队研发精密仪器成果填补国内空白，产值超过1亿元，产品出口到美国、英国、德国、澳大利亚。
为开发具有独立知识产权的电子束光刻机，松山湖材料实验室精密仪器研发团队完成项目研发，成立工业化公司，回到实验室进入“滚动发展”模式：工业化公司东莞泽友精密仪器有限公司和实验室投资2400万元进行第二阶段研发，目标是建设集科研和工业化为一体的电子束设备技术创新基地。通过深入开展电子束与新材料交叉领域的前沿技术研发，实现关键设备和通用技术的独立控制，有效提高我国电子束加工制备领域的整体创新能力和产业竞争力。
目前，东莞泽友精密仪器有限公司已基于自主开发的扫描电镜主机完成了电子束光刻机工程样机的开发，并开展了功能验证工作。通过对试样的曝光生产，可以绘制出高分辨率的复杂图形，稳步向行业先进水平迈进。这一成就标志着泽游科技在电子束光刻机关键技术和整机自主创新能力方面的重大提高。下一步，团队和工业化公司将继续完善电子束光刻机的性能指标，以满足批量应用和工业化的要求。
以下是电子束光刻机的一些应用案例：
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