台积电A14P制程有望启用High-NA EUV光刻技术

仪器仪表沙龙 20240730

  • 台积电

据台湾媒体报道，台积电最早在2028年推出的A14P过程中引入High-NA EUV光刻技术。

近日，据报道，台积电资高级副总裁、副联合运营总裁张晓强（Kevin Zhang）据透露，台积电最先进的A16工艺预计将于2026年下半年批量生产，并将在中国台湾投产。下一代工艺A14预计将于2026年上半年进入风险试生产阶段，2027年第三季度最快批量生产。预计上述两个节点的主要光刻设备仍将是ASML的低点-NA EUV机。

在A14改进版A14P中，台积电有望正式使用High-NA EUV光刻技术，时间大致落在2028年。2030年后，台积电将进入A10等更先进的一代，届时将全面引入High-NA EUV技术进一步提高了工艺技术的成本和效率。

报告还提到，台积电已完成量产 ASML High-NA EUV 采购光刻机的第一阶段。

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