TC Wafer晶圆测温系统,晶圆硅片测温热电偶
TC Wafer(Thermocouple Wafer)是一种基于热电偶原理的温度测量系统,专为半导体制造等高精度温控场景设计。以下从核心原理、技术特点、应用领域及发展趋势等方面进行综合解析:
一、核心原理与结构
- 热电效应TC Wafer通过两种不同金属材料(如铜和康铜)组成的热电偶,在温度梯度下产生塞贝克电动势,将温度变化转化为电信号进行测量。
- 传感器集成采用微制造技术将热电偶嵌入硅晶圆表面或内部,形成分布式测温网络,可定制1-64个测温点,覆盖晶圆不同区域。
二、技术特点与优势
- 高精度与稳定性
- 快速响应与耐高温响应时间短(毫秒级),适用于快速退火(RTA)、化学气相沉积(CVD)等瞬态温度变化场景。
- 灵活性与兼容性
三、核心应用场景
- 半导体制造关键工艺
- 其他工业领域
四、典型产品参数示例
参数 | 规格 |
---|---|
晶圆尺寸 | 2~12英寸(可定制) |
测温点数 | 1~64点(可定制) |
温度范围 | -200℃~1600℃ |
精度 | ±0.5℃(±0.1%读数) |
数据通道 | 1~64路(支持多路同步采集) |
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