邀请函 | 复纳科技邀您相约第 20 届国际均相催化与多相催化会议

复纳科学仪器（上海）有限公司 20250819










2025 年 8 月 24-28 日，第 20 届国际均相催化与多相催化会议（ISHHC20）将在西湖大学云谷校区举行，来自亚洲、北美、欧洲、南美等 15 个国家和地区的 500 多名专家学者、业界知名人士将齐聚西湖。大会将重点聚集绿色化学、生物催化、能源催化、手性催化等领域存在的问题，以及催化领域的未来发展方向。



复纳科技展位：6


时间：2025 年 8 月 24-28 日（24号报到）

地点：西湖大学云谷校区




复纳科学仪器（上海）有限公司（以下简称“复纳科技”）致力于提供智能、高效、可靠的高科技解决方案，深耕催化行业，积累了大量的催化行业用户和应用经验，助力科研与生产。


本次会议我们将展示 VSParticle-G1 纳米粒子发生器样机，欢迎各位专家学者莅临展台【6】探讨交流，现场更有精美礼品相送！



01


VSParticle

AI 高通量多组分催化剂打印沉积系统




VSP、Meta 和 UOT（原多伦多大学 Sargent 组）携手在实验室中测试数百种独特且多样化材料的数据集--创建开源催化数据库。VSP-P1 纳米打印沉积系统使用一种称为火花烧蚀的气相沉积工艺，通过将每种材料汽化成纳米颗粒，得到了传统方法较难合成的 525 种催化剂，人工智能模型预测这些材料是二氧化碳还原反应 (CO2RR) 的最佳候选材料。


1

该图说明了实验流程，详细说明了从合成到表征和测试的过程。（右）两种合成技术和使用喷涂 Cu 纳米粒子的参考样品。所有技术都可以看到电流密度的类似趋势。





2

使用 VSP-P1 纳米印刷沉积系统，实现 Ir 催化剂的直接生成和沉积，有效降低 5-20 倍 Ir 使用量





纳米材料触手可及！该设备可与一台或两台VSP-G1 纳米粒子发生器配合使用，自动化精准打印纳米薄膜，兼容 30 多种材料（半导电和导电），用户可轻松定制薄膜属性，加速新材料研发与创新！#纳米合成#干法纳米打印#火花烧蚀#VSParticle" data-nonce data-authiconurl="https://dldir1v6.qq.com/weixin/checkresupdate/icons_filled_channels_authentication_enterprise_a2658032368245639e666fb11533a600.png" data-width="1080" data-height="1920" data-type="video" data->



为了帮助研究人员和开发团队更高效地推进电催化的材料开发与评估，VSParticle 提供定制化的纳米涂层沉积服务，可直接在您的目标基底上构建结构可控的高性能材料层。我们能为您提供的服务包括：


  1. 超低负载：最低 0.1 mg/ cm²，贵金属用量立省 50%+；

  2. 全元素合金：Pt、Ni、Fe、Cu…任意比例混合，梯度成分一次成型；

  3. 一步直写：火花烧蚀干法沉积，无需浆料/粘结剂，直接长在 Nafion、Si、Ti-PTL 上；

  4. 厚度 0.1-10 µm 可调，最大 15 × 15 cm，兼容晶圆级高通量筛选；

  5. 适用场景：PEM、AEM、SOE、CO₂RR、N₂RR、超级电容、液流电池等；

  6. 附加服务：退火、SEM/光学表征，一站式完成验证



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02

PHENOM

飞纳台式扫描电镜




纳米颗粒的形态、分布、尺寸和化学组成对其催化效率至关重要。扫描透射电子显微镜（STEM）与能量色散 X 射线光谱（EDS）结合已被证明是直接观察和量化这些信息的重要研究工具。飞纳台式场发射扫描透射电镜 Pharos STEM 非常适合用来观察催化剂纳米粒子，让工作流程自动化，产生高解析度、大面积的纳米颗粒数据，以全面了解催化剂。


多壁碳纳米管的 BF 像和 HAADF 像

放大倍数：20,000X


Phenom AFM-SEM 原子力扫描电镜一体机

Phenom Phaors-STEM 飞纳台式场发射扫描透射电镜

Phenom Phaors G2 飞纳台式场发射扫描电镜 

 Phenom XL G2 飞纳大样品室扫描电镜

Phenom ProX 飞纳电镜能谱一体机


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03


DENSsolutions

TEM 原位实验样品杆




DENSsolutions 致力于开发先进的透射电镜样品管理解决方案。目前，DENS 的原位系统可以在样品杆中引入多种外部环境刺激，如在透射电镜观察中加入气体、液体、加热、热电、冷冻环境，同时保留了透射电镜高分辨率的成像效果和优异的化学分析特性，为催化剂在相关条件下研究各种材料和工艺开辟了前所未有的可能性。


1

Cu 的结构动力学与催化活性的关系 

文章原文：DOl: 10.1002/adma.202101772.





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04


ForgeNano

高通量原子层级界面调控技术




PALD 已被⽤于在超⾼⽐表⾯积基底载体上沉积 Pd、Pt、Ni、Rh、Fe、Ir 和 Ru 等催化剂材料。PALD 涂层对催化的作用是多方面的，一方面可以提高催化剂的选择性和使用寿命，从而提高催化剂的性能。另一方面可有效减少金属催化剂的析出或烧结，从而避免催化剂的比表面积和性能的下降。使用 Forge Nano 原子层沉积设备可包覆均匀保形且厚度可控的 ALD 亚纳米级界面/团簇，有效提升催化性能。


1

氧化铝 ALD 涂层保留并增强了 Pd 纳米颗粒的催化活性，同时在 500℃ 条件下依然能有效防止其烧结。






2

ALD在碳材料基底表面制备高度分散的Pt团簇





3

高活性Ni纳米线表面Pt包覆用于燃料电池







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咨询热线：400 857 8882




复纳科技成立于 2012 年，专注引进欧美先进、稳定的科学分析仪器与制造设备，助力中国科研创新与工业升级。公司已服务 2,500+ 家中国用户，并与近 10 家国际知名制造商建立了长期稳定的合作关系，共同为中国用户提供高品质产品与专业服务。主要业务线如下：


  1. 复纳显微成像：荷兰 Phenom 台式扫描电镜、比利时 NEOSCAN 高分辨台式显微 CT、匈牙利 Technoorg Linda 离子研磨仪

  2. 复纳清洁度检测：荷兰 Phenom ParticleX 清洁度检测系统（锂电、汽车、光学模组、钢铁夹杂物）；荷兰 Fastmicro 可视化颗粒检测系统

  3. 复纳纳米制造：美国 Forge Nano 粉末原子层沉积系统、荷兰 VSParticle 纳米气溶胶沉积系统

  4. 透射电镜原位分析：荷兰 DENSsolutions 原位透射样品杆、匈牙利 Technoorg Linda TEM 氩离子精修仪

  5. 复纳半导体：荷兰 LabSEMI 半导体软管系列

  6. 复纳生命科学：匈牙利 Femtonics 双光子显微镜


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