复纳科技邀您共聚 SEMI-e 2025 第七届深圳国际半导体展

复纳科学仪器（上海）有限公司 20250908

  • 半导体材料



SEMI-e 2025 第七届深圳国际半导体展（简称：SEMI-e）将于 2025 年 9 月 10 日 - 12 日在深圳国际会展中心（宝安新馆）隆重举行！本届展会将聚焦半导体行业的各个细分领域，全面展示半导体行业的新技术、新产品、新亮点、新趋势，汇聚超过 900 家展商，以人工智能、算力存储、芯片设计、晶圆制造、先进封装、半导体专用设备及零部件、先进材料及碳材料、碳化硅/氮化镓等第三代半导体、IGBT、功率器件、电力电子及汽车半导体等为主，全面展示集成电路和半导体最新的制造和解决方案。



会议时间：2025年9月10日-12日


会议地点：深圳国际会展中心（宝安新馆）



复纳科技展位号：13A-10


半导体材料一直以来都是芯片制造的“基石”，是推动集成电路产业发展创新的重要基础。不管是制造还是封测，半导体材料几乎贯穿整个集成电路制造过程。复纳科技此次为大家带来在半导体行业丰富的产品组合和案例分享。欢迎大家莅临【13A-10】展位交流互动，此次还为大家准备了丰富的小礼品哦～



PART01

飞纳台式扫描电镜


失效分析是对于电子元器件的实效原因进行诊断，这个过程中需要对失效位置的微观形貌进行检测，并进行成分分析。电子元器件的失效原因多样，比如内部存在杂质、介在物、孔洞、腐蚀、开裂等，这些都无法在后续的加工中去除，反而容易引起造成更严重的破坏。因此，需要借助扫描电镜，进行快速判断失效原因，具有非常重要的意义。


飞纳台式电镜分辨率优于 1nm，15s 抽真空，30s 超快成像，可以快速过滤样品，确认分析位置和样品前处理的状况。具有专利防震技术，可以放置在 FA 实验室、高楼层办公或者产线旁。为您提供高效、简单、精确的半导体解决方案，帮助您提升工艺良率。


推荐型号





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PART02

SEM 制样设备 - 离子研磨仪


对于电子元器件进行失效分析时，对内部的孔洞、杂质等进行微观结构观察和分析时，需要借助离子研磨仪切割的方法，选择合适的能量离子枪，利于离子束进行剖面的切削或表面抛光处理，可以有效地解决以上问题。




SiOx/SiCx 截面能谱 EDS 分析：对轻元素仍拥有极佳的分析能力


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这就是你一直在寻找的理想制样设备

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PART03

NeoScan 高分辨显微 CT


显微 CT 以其高分辨、非破坏和三维成像的能力，被广泛应用于电子元器件领域。在不影响设备完整性的前提下，可以准确识别和分析各种电子元器件，包括微型晶体管、电容器、电阻器等，可以发现内部可能存在的缺陷、焊接问题等，从而确保设备的品质和可靠性。

推荐型号


NXL 台式大仓显微CT

N90 高分辨台式纳米CT

N80 高分辨显微CT


使用 N90 纳米 CT 以 500nm 像素大小对一颗集成多层高带宽存储器（HBM）的先进 GPU 进行成像。整个 GPU 尺寸为 40 mm，扫描结果可清晰分辨每一条 TSV（硅通孔），证实存储器之间用于信号传输的所有连接均保持完好。


使用 Neoscan NXL 台式大仓显微 CT 以 35 微米像素大小扫描 15 寸笔记本电脑，半透明渲染，呈现复杂电路、结构布局，主板细节清晰可见。


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PART04

半导体行业清洁度分析解决方案


通过将 PMC（颗粒测量卡）按压在表面上，收集颗粒。使用清洁度检测系统自动分析统计并归类。


Phenom ParticleX 全自动清洁度分析

传统的清洁度分析方法（重量法和光镜法）只能提供清洁部件上大颗粒灰尘和碎片的总体重量或形状信息，而不能全面分辨颗粒的污染源。Phenom ParticleX 全自动清洁度分析系统，基于扫描电镜 + 能谱法取代传统颗粒物清洁度检测方法，允许工程师看见微米尺寸的颗粒并确定其化学成分，从而判断出污染源。




Fastmicro 亚微米级颗粒计数标准解决方案

Fastmicro 致力于帮助客户解决亚微米级洁净度检测的难题。通过快速、精准、量化的表面颗粒测量，帮助客户实现洁净控制的技术突破。



01

仪器表面颗粒物分析仪 SAS


符合 ISO 14644-9 标准


可检测低至 0.5 um 颗粒


90% 采集效率 | >90% 重复性


10 秒完成检测


ASML 都在用！



02

环境落尘颗粒实时监控仪 PFS


符合 ISO 14644-17 标准


可检测低至 0.5 um 颗粒


10 秒完成 2 英寸面积检测


适用于真空与常压环境



03

晶圆表面颗粒物快速检测系统 PDS


每小时可检测 400 片晶圆


最小检测颗粒尺寸 100 nm


支持 4/6/8/12 英寸晶圆


重复定位精度 15 um


同时检测正反两面，无需翻转晶圆


PART05

LabSEMI 半导体专用软管


在半导体前道生产设备中，需要运输浓酸、浓碱等腐蚀性或高温气体和液体，这对软管的综合要求非常高，如需要在数百摄氏度或零下数百摄氏度条件下运输数百大气压的特种气体，不能产生泄露，且因为在无尘间使用，不能产生纳米级以上的颗粒。市场上很多软管产品可以满足单一条件，但对于需要同时满足腐蚀环境、高温、高压、耐久度等条件的软管产品，需要公司对材料性能的选择和设计有深入的理解，焊接加工等精度要求非常高。



LabSEMI 产品优势

  • 循环寿命：最高 50,000次

  • 耐压性：最高 4500bar

  • 标准：满足 ISO10380，ENISO 9001.EN 14585，ASME 31.3 清洁度标准

  • 验证：可进行密封性验证和清洁度验证，部分产品最高可接受10-12 std cm3/s氦气泄露检测

  • 服务：从图纸设计-原型 3D 打印-方案验证-产品加工-性能验证-出厂前检验，全流程可控；接受定制，响应快速

  • 软管兼容所有接头品牌和型号


金属软管

PTFE 塑料软管

橡胶软管


每个系列的软管，均有不同的尺寸规格（如内径、外径、最小弯曲半径等），可以耐受不同的压力和温度范围。您可以联系我们详细咨询（咨询热线：400 857 8882）



如果您想了解更多产品详情、应用案例或付费测试服务，欢迎扫码快速咨询：



咨询热线：400 857 8882



复纳科学仪器（上海）有限公司（简称“复纳科技”）深耕仪器行业十余年，致力于引进世界先进的分析测试科学仪器装备，为客户提供优质的产品、服务和核心技术解决方案，赋能科研创新、工业升级。目前主要提供七大产品：飞纳台式扫描电镜、Technoorg Linda 制样设备离子研磨仪、NEOSCAN 高分辨台式显微CT、DENSsolutions 原位透射样品杆、Forge Nano 粉末原子层沉积系统、 VSParticle 纳米气溶胶沉积系统和Femtonics 双光子显微镜以及相关产品的付费测试服务。目前在上海（总部）、北京、广州、成都、苏州均有 DEMO 体验中心，售后服务遍布全国。


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