【新弘钧半导体】邀请您相聚第十六届纳博会536&537展位！

纳博会 20260617

第十六届中国国际

纳米技术产业博览会

2026年10月21-23日

苏州国际博览中心

中国国际纳米技术产业博览会（简称“纳博会”）自2010年举办首届以来，已连续在苏州工业园区成功举办15届，累计邀请169名国内外院士（其中诺奖得主3人）、177616位参展参会嘉宾、8250多家参展企业，论坛报告达3578场。CHInano 2026将于2026年10月21-23日再度启航，为全球产业界搭建洞察趋势、汇聚资源、驱动合作的核心平台。

展商推荐

展位号：536&537

苏州新弘钧半导体科技有限公司

公司介绍

公司专注于特种石墨、钨、钼及其衍生材料的研究与精密加工，产品广泛运用于离子束、光学抛光、刻蚀、晶圆修形等半导体高端设备环节。我们通过持续的技术创新，致力于为半导体产业提供高性能材料解决方案，以助力技术突破与产业升级，满足市场对高精度核心材料的迫切需求。公司秉承“以人为本，追求卓越”的经营理念，以“亲和顾客”为价值准则，倡导绩效导向的创新协作。我们建立了“共建共享”的价值分配体系，并恪守“高品质、高服务、高满意度”的三高宗旨，皆在打造值得客户信赖的品牌，实现企业与员工的共同成长。

产品介绍

12寸IBE刻蚀石墨栅

石墨在IBE（离子束刻蚀）工艺中具有独特的应用价值，主要原因在于其优异的物理化学性质（耐高温、耐腐蚀、良好的导电导热性、特定的层状结构）以及IBE物理溅射主导的刻蚀机制非常适用于加工石墨。

矩形栅网

离子束镀膜IBS应用中常用栅网有石墨、也有钼材料，相比于钼材料，石墨的电极的优势，如下石墨电极凭借卓越的耐溅射性、热稳定性的低污染特性，成为高精密度、长寿命工艺的首选；适配vecco、光驰、ppg、博顿等离子源设备。

离子束CUP

离子束修频也成离子束抛光是一种利用低能聚焦离子束对材料表面进行纳米级精度去除的技术，主要用于超高精密度光学元件光刻机物镜、半导体器件关键尺寸微调、MEMS传感器频率修整等场景。其核心在于非接触式原子材料移除，我们常说材料去除，实现亚纳米级面形精度控制。

VC石墨治具

Sic碳化硅镀层用于高纯石墨夹具、基座等部件，防止石墨污染硅片，保障芯片纯度。如：MOCVD外延炉中，任何1 ppm的杂质都会引发晶圆缺陷。SiC镀层是晶圆良率的“隐形守护者”。

联系方式

邮箱：lingjie@hongjuntansu.com

网址：www.xhjst.com

往届回顾

第十五届中国国际纳米技术产业博览会举办1场主报告、15场分论坛，分享前沿报告605场，同比增长约26%，以及1场创新创业大赛、3场供需对接会，汇聚了150余位国家级人才，500余位国内外高校院所、企业机构的顶级专家。展区面积25000㎡，吸引全球350余家顶尖企业与机构参展，展示全球纳米技术领域最新技术产品和创新应用2400多件。本届大会累计到场参与总人次近2.75万人次，大会规模创下历史之最，影响力攀升至新高度。