ASML中国：让摩尔定律重焕光彩，1nm不是难事

中国传动网 20220519

  • 摩尔定律
  • 光刻系统
  • 1nm制程
ASML自信满满地指出“在元件方面，目前的技术创新足够将芯片的制程推进至至少1纳米节点，包括gate-all-around FETs(环绕栅极晶体管)，nanosheet FETs，forksheet FETs以及complementary FETs”。

       5月16日是联合国教科文组织定义的“国际光日”，ASML中国官方在一篇微信推送中写道“创新，让摩尔定律重焕光彩”。

　　ASML中国强调，过去15年，摩尔定律依然生效且状况良好，未来十年甚至更长时间内将继续保持势头。

　　ASML自信满满地指出“在元件方面，目前的技术创新足够将芯片的制程推进至至少1纳米节点，包括gate-all-around FETs(环绕栅极晶体管)，nanosheet FETs，forksheet FETs以及complementary FETs”。

　　此外，光刻系统分辨率的改进(预计每6年左右缩小2倍)和边缘放置误差(EPE)对精度的衡量也将进一步推动芯片尺寸缩小的实现。

　　据了解，纳米之后将进入埃米时代，台积电、Intel等都制定了雄心勃勃的埃米工艺早期路线图。也许，技术创新之所以弥足珍贵，内核要义就在于不会被困难打倒。

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