ASML和台积电成功地开发了浸润光刻机

目前，有两种光刻机，一种是DUV，另一种是EUV，这是关注关刻机技术的人都知道的。

其中，7nn及以下的芯片采用EUV光刻，7nm以上的芯片采用DUV光刻。而DUV光刻，则基本采用浸润原理。

也就是说，在光刻机中，使用水作为介质，使193nm波长的光线在进入水中进行折射，从而实现从45nm-10nm级的光刻。

实际上，在浸润均采用干式光刻机，即介质为空气，193nm波长的光线，直接用于浸润式光刻机推出前的光刻。

而且在干式光刻技术中，尼康、佳能都是巨头。至于ASML，还只是一个小厂，和尼康、佳能完全不是一个档次。

然后是ASML押宝浸润光刻机，革了尼康，佳能的命，把尼康，佳能踩在脚下。

所以问题来了，为什么偏偏是ASML？

事实上，在光刻机使用193nm波长后，芯片过程达到65nm，接下来芯片工艺是朝着45nm前进。然而，193nm的光感觉不够细，因此该行业将光刻光瞄准了157nm的波长。

然而，波长的157nm光非常糟糕。这种光穿透率非常差，因此需要改进屏幕材料和镜头BCW60D技术。此外，氧气会吸收157纳米的光，因此在干燥介质中不应使用有氧介质，而应使用氮气。无论如何，这是157nm波长的光有很多问题，很难解决。

这个时候，在台积电工作的林本坚，提出了一个观点，为什么一定要用干式介质？也可以用水作为介质。

经过不断的实验，他发现193nm波长的光线在水中折射后变成了132nm波长。这个波长跳过了令人讨厌的157nm波长，解决了这个问题。这不是完美的吗？

然而，在这个时候，像尼康和佳能这样的人长期以来在157nm波长方面投入了数十亿美元的研究，并且认为157nm波长是方向。所谓的渗透技术是不可行的，所以他们不太在意。

只有ASML，因为它是一家小工厂。不管怎样，赤脚的人不怕穿鞋。他们认为他们可以赌博，所以他们用这种技术赶出了一台实验性浸润光刻机，并向台积电查看了一些实验结果。

台积电一看，感觉技术完全可行，于是台积电和ASML两家公司一起研发了浸润光刻机。

此时，尼康、佳能等人还表示，林本坚正在制造麻烦，甚至想通过高层建筑来阻止林本坚开发渗透性光刻机，因为他们在157nm波长光刻机上投入了太多，并与产业链合作推动了157nm，因此不可能半途而废。数十亿美元漂浮在水中，无法向产业链解释。

最后，ASML和台积电成功地开发了浸润光刻机，而尼康则没有为佳能提供可靠的产品，尼康开发了157nm波长光刻机。

因此，当尼康和佳能转向浸润光刻机时，所有的晶圆厂都转向了ASML生产的浸润光刻机。它已经落后ASML三年了。

最终，尼康、佳能只能看着ASML越来越受欢迎，最终推出了EUV光刻机，但它们被慢慢淘汰了...

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