产品概述
四氟化硅传感器是由四方光电自主研发的高性能气体传感器，产品基于非分光红外技术(NDIR)，能够精确测量半导体等应用中产生的SiF4、WF6、CF4、SF6、NF3、CO2等气体，兼容机台内常见预留尺寸、法兰和通讯协议，适合半导体行业化学沉积设备、原子层沉积设备腔室的清洁终点监测。
核心特点/优势
- 使用NDIR技术，支持多气体监测（SiF4、WF6、CF4、SF6、NF3、CO2等）
- 响应时间快，高灵敏度
- 无耗材，维护成本低
- 支持模拟/数字通信
- 模块化设计，便于集成
应用领域
- 半导体行业化学沉积设备
- 原子层沉积设备腔室清洁终点监测
技术参数
| 规格项 | 参数值 |
|---|---|
| 检测原理 | NDIR |
| 检测气体 | SiF4、WF6、CF4、SF6、NF3、CO2 |
| 检测限 | 1ppm |
| 重复性 | ±0.5% |
| 量程 | 1~264ppm(0~200mTorr) |
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