CMOS 传感器专属纳米干冰雪花清洗机,清洁力调节超灵活

品牌 Wemaxnano 微迈科技

目录 纳米干冰雪花清洗机

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产品概述

佛山微迈纳米干冰雪花清洗机采用先进的CO2微粒子技术,通过喷射微纳米级颗粒实现对设备表面的无损清洗。该设备采用干工序设计,清洗后无需额外干燥处理,专门解决微纳电子制造产业(如半导体、光学、液晶面板等)中表面微污染物清洗困难的技术难题。

核心特点/优势

  • 采用CO2微粒子技术,颗粒尺寸达微纳米级(μm-μg级),清洗精度极高,适用于微观污染物去除。
  • 二氧化碳原料便于液态存储与运输,二氧化碳利用率大于80%,使用成本相对较低。
  • 颗粒粒径、清洁效果、冲击力及清洁力均可灵活调节,设备能耗较传统干冰清洗更低。
  • 清洗过程几乎无机械损伤风险,表面损伤低,且无化学残留,环保性优。
  • 运行噪音控制在70-80dB,相比传统干冰清洗(90dB以上)更为安静,工作环境友好。

应用领域

  • 显示面板灰尘清洗
  • OLED线路板的松香清洗
  • 光学模组的微污染物的清洗
  • CMOS传感器清洗
  • 激光泵浦光源微污染物清洗
  • 指纹清洗
  • 精密零部件去毛刺
  • 光学模具微污染物清洗
  • 激光的精密加工衍生污染物清洗
  • 洁净设备(半导体设备)及零部件的清洗
  • PCB焊点松香清洗
  • 金属/非金属接合清洗

选型指南/使用建议

本设备专为微纳电子制造、光学精密仪器及半导体行业设计,特别适用于对表面损伤敏感且需去除纳米级污染物的场景。建议配备标准CO2气源,运行环境需保持通风干燥。由于采用可调节喷射系统,用户可根据不同材质与污染物类型灵活设定冲击力度与颗粒浓度,以达到最佳清洗效率与能耗平衡。设备内部结构优化,日常维护以管路清洁与喷嘴检查为主。

技术参数

规格项参数值
颗粒尺寸微纳米级(μm-μg级)
二氧化碳利用率>80%
噪音水平70-80dB
工作介质CO2
干燥工序无需干燥
清洗技术CO2微粒子技术
表面损伤低/无损
温馨提示

若上述内容存在差异,请以产品手册为准。

如需获取样品、技术支持或完整规格书,请点击联系销售。

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