产品概述
鼎诺仪器 TC-Wafer 晶圆测温系统专为半导体制造中的高温工艺设计，采用 K 型热电偶技术，覆盖 0°C 至 1600°C 的超宽温度范围。系统具备高精度、多通道、高采集频率等特性，适用于 PVD、CVD、ALD、退火炉、扩散炉、外延炉等关键制程中的温度测量与监控。
核心特点/优势
- 测量精度高达 ±1.5°C / ±0.4%，满足高温工艺对温度控制的严苛要求
- 支持 1~64 通道配置，灵活适配不同工艺场景
- 采集频率达 5Hz，实时捕捉温度变化
- 支持 USB / RS485 / 以太网多种通讯方式，便于系统集成
- 配备专业上位机软件，支持实时曲线绘制、温度云图生成、数据存储与多通道同步分析
- 相比传统热电偶系统，具备更高的稳定性与数据可靠性
应用领域
- PVD / CVD / ALD 薄膜沉积工艺
- 退火炉 / 扩散炉 温度均匀性验证
- 外延炉 晶圆温度分布测量
- 涂胶显影 Track 设备 加热板校准
- 去胶设备 温度监控
选型指南/使用建议
TC-Wafer 系统适用于需要高温测量的半导体制造场景，建议根据工艺温度范围、通道数量、通讯方式等需求进行选型。系统支持定制化配置，包括传感器类型、数量、位置等，以满足不同设备和工艺的集成需求。
技术参数
| 规格项 | 参数值 |
|---|---|
| 测量精度 | ±1.5°C / ±0.4% |
| 温度范围 | 0°C ~ 1600°C |
| 通讯方式 | USB / RS485 / 以太网 |
| 通道数量 | 1~64 通道 |
| 采集频率 | 5Hz |
| 显示分辨率 | 0.1°C |
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