定义：
MASK BLANK：是一种硬面光掩模材料，即光掩膜基版，它是当前及未来微细加工光掩膜制作的主流感光材料。
特点：
具有高的感光灵敏度、高分辨率、低缺陷密度、耐磨性好、易清洁处理、使用寿命长等特点
应用 ：
主要应用于：半导体芯片制造，显示面板行业、光学行业掩膜版、半导体显示器件、PCB等行业，
定义：
MASK BLANK：是一种硬面光掩模材料，即光掩膜基版，它是当前及未来微细加工光掩膜制作的主流感光材料。
特点：
具有高的感光灵敏度、高分辨率、低缺陷密度、耐磨性好、易清洁处理、使用寿命长等特点
应用 ：
主要应用于：半导体芯片制造，显示面板行业、光学行业掩膜版、半导体显示器件、PCB等行业，
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