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Picosun芬兰 Picosun 原子层沉积Picosun 公司是一家全球公司，一直致力于为行业提供最先进的ALD（原子层沉积）薄膜涂层解决方案。 借助Turn-key类型的生产流程和无与伦比的开创性专业知识（可追溯到ALD技术的被发明），Picosun公司的ALD解决方案不断为市场和客户带来未来的技术方案。 PICOSUN ®ALD设备已在世界各地的许多领先行业中投入日常生产使用。
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SUPERALD 原速科技深圳市原速光电科技有限公司（Superald,LLC）是一家专注于原子层沉积（AtomicLayerDeposition，ALD）系统设计、工艺研发及技术咨询的高科技企业，为柔性显示、光学镀膜、太阳能电池及锂电池等领域的薄膜研发和生产提供优质的技术服务和一体化解决方案 公司目前有一支高水平的研发与服务团队，团队涵盖加拿大麦吉尔、荷兰代尔夫特理工、日本上智大学等知名学府归国人才，具备雄厚的技术开发和创新能力，严谨的结构设计和质量控制体系。国家高新技术企业认定。 公司拥有独立的ALD工艺开发部门，在薄膜材料研发方面经验丰富。实验室内拥有多台ALD设备用于薄膜开发，可为不同行业不同样品提供ALD代加工服务，可为客户提供最专业的材料开发技术支持。 原速将提供从ALD设备到工艺的全方位服务。
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SRII 四方思锐智能思锐智能主要聚焦关键半导体前道工艺设备的研发、生产和销售，提供具有自主可控的核心关键技术的系统装备产品和技术服务方案。 公司产品包括原子层沉积（ALD）设备及离子注入（IMP）设备，广泛应用于集成电路、第三代半导体、新能源、光学、零部件镀膜等诸多高精尖领域。 2018年，公司完成对ALD技术发源地——芬兰倍耐克公司100%股权的收购工作。 思锐智能整合倍耐克海外前沿技术研发资源，开展ALD技术国内外联合研发与国内产业化落地工作，建立了完善的ALD产品体系，覆盖全球众多头部客户并在众多细分领域取得领先的市场竞争地位。 目前思锐智能及其子公司拥有300余项相关专利，在ALD技术及应用方面具备雄厚的技术积累。公司在推进ALD业务转型升级后，布局离子注入设备业务并取得突破。
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CN-1韩国 CN1 通过积极的研发投资，已成为原子层沉积(ALD)设备的领先的供应商。经过十多年的集约开发，我们的设备设计和工艺技术得到了充分的验证和完善。 因此，在半导体、显示、生物技术和先进能源行业工作的高科技组织现在更青睐CN1 ALD系统，以满足他们最苛刻的纳米技术应用和生产需求。 CN1的ALD设备目前在美国、日本、新加坡、台湾、俄罗斯、中国、韩国等数百所大学、研究机构和企业使用。我们的成功和我们作为一个全球性公司的持续增长证明CN1确实可以成为顶尖的供应商。
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Annealsys法国 Annealsys 是一家领先的RTP和DLI -CVD / DLI -ALD系统制造商，用于硅和化合物半导体、纳米技术、MEMS、太阳能电池、玻璃等领域的研究生产应用的公司。 凭借15年的经验，我们的博士团队已经开发和优化了多个RTP, ALD和CVD工艺。 通过我们的应用和研发实验室，Annealsys提供工艺开发和工艺服务，我们可以根据客户的要求执行RTP, CVD和ALD工艺，或与客户合作开发新工艺，我们的工艺工程师团队可以开发或协助我们的客户在退火和沉积工艺 Annealsys公司于2004年在法国南部的蒙彼利埃成立，Annealsys通过全球销售和服务机构提供卓越的技术和过程客户服务。
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源展材料苏州源展材料科技有限公司创立于2020年，目前主要提供和开发用于化学气相沉积和原子层沉积薄膜材料所需的特种电子化学品–即CVD和ALD前驱体源，以支持工业界和科研院校在半导体、显示、纳米、新能源、催化等领域的工业应用和学术研究 公司具有从实验室小量级到规模化生产的能力，且在上海和苏州有完备的市场、销售、技术支持和客服等功能部门。
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PTTC 聚鼎科技我们的公司拥有领先的技术优势，提供客户创新的电路保护及热管理系列产品之解决方案，以确保现今高密度电子产品中的安全性及可靠度。聚鼎科技提供过电流保护组件专业设计与制造服务，以保障日益密集的电路组件系统。 聚鼎科技的产品群包括了SMD、RLD、ALD以及其它客制化产品。相较于一次性使用保险丝，EVERFUSE®是可以重复使用的过电流保护组件。
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Nata 南大光电材料2013-20172016年 承担国家“02-专项”ALD金属有机前驱体产品的开发和安全离子注入产品开发项目。2013年11月26日 全椒南大光电材料有限公司成立。 2017年9月· 获国家“02-专项”193nm 光刻胶及配套材料关键技术的开发项目立项。· 建成8条ALD/CVD前驱体系列产品生产线，已有部分产品通过知名客户验证并具备批量供货能力。 建设国际⼀流的电子材料公司使命：为⽤户提供更安全、绿⾊、经济和⾼品质的电⼦材料价值观：安全第一，质量第一，踏实做事，以人为本，客户导向，产业报国荣誉资质主要产品前驱体材料MO源、定制产品、新型硅前驱体、ALD 技术突破打破封锁1986年，MO源作为前驱体核心材料纳入国家高技术发展计划。 产业提升产业提升2016 年，承接国家“02-专项”，现已建成具备合成、纯化、分析、封装等功能的ALD前驱体研发中心和生产线，完全满足相关芯片产品的制造要求。
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鹏城半导体鹏城半导体技术（深圳）有限公司，由哈尔滨工业大学（深圳）、北京琨腾科技有限公司以及有多年实践经验的工程师团队共同发起创建。 公司立足于技术前沿与市场前沿的交叉点，寻求创新与可持续发展，解决产业的痛点和国产化难题，争取产业链的自主可控。公司核心业务是半导体材料、工艺和装备的研发设计、生产制造。 公司已投放市场的部分半导体设备物理气相沉积（PVD）系列磁控溅射、电子束、热蒸发镀膜机，激光沉积设备PLD化学气相沉积（CVD）系列MOCVD、PECVD、LPCVD、微波等离子体CVD、热丝CVD、原子层沉积设备ALD
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CASAcme 中科艾科米中科艾科米（北京）科技有限公司 坐落于北京怀柔科学城，公司致力于纳米材料表征、纳米材料制备技术的研发；核心团队在相关领域的科学研究及科研仪器设备的研制方面具有十多年的技术积累和扎实的基础，掌握目标仪器装备的多项核心技术 主要产品包括超高真空变温扫描探针显微镜系统（UHV-VT-SPM SYSTEM）、原子层沉积系统（ALD SYSTEM）、光学兼容超高真空低温扫描探针显微镜-分子束外延联合系统（UHV-LT-SPM-MBE
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SRII重磅亮相CICD 2021，以先进ALD技术赋能第三代半导体产业2021-11-11
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40年ALD积淀助力超越摩尔，思锐智能完成第一阶段发展布局2021-06-08
