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SRII 四方思锐智能思锐智能主要聚焦关键半导体前道工艺设备的研发、生产和销售，提供具有自主可控的核心关键技术的系统装备产品和技术服务方案。 公司产品包括原子层沉积（ALD）设备及离子注入（IMP）设备，广泛应用于集成电路、第三代半导体、新能源、光学、零部件镀膜等诸多高精尖领域。 2018年，公司完成对ALD技术发源地——芬兰倍耐克公司100%股权的收购工作。 思锐智能整合倍耐克海外前沿技术研发资源，开展ALD技术国内外联合研发与国内产业化落地工作，建立了完善的ALD产品体系，覆盖全球众多头部客户并在众多细分领域取得领先的市场竞争地位。 目前思锐智能及其子公司拥有300余项相关专利，在ALD技术及应用方面具备雄厚的技术积累。公司在推进ALD业务转型升级后，布局离子注入设备业务并取得突破。
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Picosun芬兰 Picosun 原子层沉积Picosun 公司是一家全球公司，一直致力于为行业提供最先进的ALD（原子层沉积）薄膜涂层解决方案。 借助Turn-key类型的生产流程和无与伦比的开创性专业知识（可追溯到ALD技术的被发明），Picosun公司的ALD解决方案不断为市场和客户带来未来的技术方案。 PICOSUN ®ALD设备已在世界各地的许多领先行业中投入日常生产使用。
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SUPERALD 原速科技深圳市原速光电科技有限公司（Superald,LLC）是一家专注于原子层沉积（AtomicLayerDeposition，ALD）系统设计、工艺研发及技术咨询的高科技企业，为柔性显示、光学镀膜、太阳能电池及锂电池等领域的薄膜研发和生产提供优质的技术服务和一体化解决方案 公司拥有独立的ALD工艺开发部门，在薄膜材料研发方面经验丰富。实验室内拥有多台ALD设备用于薄膜开发，可为不同行业不同样品提供ALD代加工服务，可为客户提供最专业的材料开发技术支持。 原速将提供从ALD设备到工艺的全方位服务。
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CN-1韩国 CN1 通过积极的研发投资，已成为原子层沉积(ALD)设备的领先的供应商。经过十多年的集约开发，我们的设备设计和工艺技术得到了充分的验证和完善。 因此，在半导体、显示、生物技术和先进能源行业工作的高科技组织现在更青睐CN1 ALD系统，以满足他们最苛刻的纳米技术应用和生产需求。 CN1的ALD设备目前在美国、日本、新加坡、台湾、俄罗斯、中国、韩国等数百所大学、研究机构和企业使用。我们的成功和我们作为一个全球性公司的持续增长证明CN1确实可以成为顶尖的供应商。
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PTTC 聚鼎科技聚鼎科技的产品群包括了SMD、RLD、ALD以及其它客制化产品。相较于一次性使用保险丝，EVERFUSE®是可以重复使用的过电流保护组件。 因此EVERFUSE®相当适合各种工作电压，并广泛应用于计算机周边产品、消费性电子、电池、通讯设备……等等，基本上可应用于各种负载的保护。
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鹏城半导体公司已投放市场的部分半导体设备物理气相沉积（PVD）系列磁控溅射、电子束、热蒸发镀膜机，激光沉积设备PLD化学气相沉积（CVD）系列MOCVD、PECVD、LPCVD、微波等离子体CVD、热丝CVD、原子层沉积设备 ALD超高真空系列分子束外延系统（MBE）、激光分子束外延系统（LMBE）成套设备团簇式太阳能薄膜电池中试线、OLED中试设备（G1、G2.5）其他金刚石薄膜制备设备、合金退火炉、硬质涂层设备、磁性薄膜设备 、电极制备设备真空镀膜机专用电源系列直流溅射电源、RF射频溅射电源、高精度热蒸发电源、高能脉冲电源（中频可调脉宽）
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Nata 南大光电材料2013-20172016年 承担国家“02-专项”ALD金属有机前驱体产品的开发和安全离子注入产品开发项目。2013年11月26日 全椒南大光电材料有限公司成立。 · 建成8条ALD/CVD前驱体系列产品生产线，已有部分产品通过知名客户验证并具备批量供货能力。· 引进高K三甲基铝先进生产线。 建设国际⼀流的电子材料公司使命：为⽤户提供更安全、绿⾊、经济和⾼品质的电⼦材料价值观：安全第一，质量第一，踏实做事，以人为本，客户导向，产业报国荣誉资质主要产品前驱体材料MO源、定制产品、新型硅前驱体、ALD 实验室中⼼拥有13500平⽶现代化实验室以及众多先进的研发、分析、测试设备,包括 193nm浸没式光刻机1台、⾼分辨核磁5台、ICP-MS4台、ICP-OES 2台、各种 质谱3台以及进⼝升华仪.蒸镀机 产业提升产业提升2016 年，承接国家“02-专项”，现已建成具备合成、纯化、分析、封装等功能的ALD前驱体研发中心和生产线，完全满足相关芯片产品的制造要求。
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CASAcme 中科艾科米中科艾科米（北京）科技有限公司 坐落于北京怀柔科学城，公司致力于纳米材料表征、纳米材料制备技术的研发；核心团队在相关领域的科学研究及科研仪器设备的研制方面具有十多年的技术积累和扎实的基础，掌握目标仪器装备的多项核心技术 主要产品包括超高真空变温扫描探针显微镜系统（UHV-VT-SPM SYSTEM）、原子层沉积系统（ALD SYSTEM）、光学兼容超高真空低温扫描探针显微镜-分子束外延联合系统（UHV-LT-SPM-MBE
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FHR Anlagenbau时至今日，我们的核心业务定位于定制镀膜设备的制造。我们现已交付远超200台镀膜设备，从中构筑了多功能模块化设计理念，并通过应用实践不断验证其功能效果。 我们同时也精于根据客户应用领域需求研制高产率定制产品以及为试运行验证产品质量，或者根据客户特殊指标要求，利用我们的自有设备，与客户合作开发定制耗材(溅射靶材)的材料成分 。 我们的薄膜技术核心竞争力工程专业知识与应用单台设备经验实现系列设备的拓展能力一样，定制镀膜设备的制造FHR的核心竞争力。我们的设备以真空条件下的功能膜层沉积工艺为导向。 我们的特长是设计定制化镀膜设备以期产出具有竞争力的产品 (拥有成本)。 工艺研发专业知识我们拥有多名具备广泛技术背景的研发工艺师。 技术范围包括：反应和非反应磁控溅射热蒸发用于金属高速率沉积CVD 和PECVD氧化物和氮化物、用于沉积超薄功能膜层的原子层沉积(ALD), 其可在复杂三维表面实现均匀的膜层厚度用于表面处理和超高效率材料移除
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Leadmicro 微导科技公司形成了以原子层沉积（ALD）技术为核心，CVD等多种真空薄膜技术梯次发展的产品体系，专注于先进微米级、纳米级薄膜设备的研发、生产与应用。 公司产品率先用于光伏电池片生产过程中的薄膜沉积环节，具备优良的产能提升能力与产品性能，在保障光电转换效率的同时，有效帮助下游电池片厂商大幅降低了设备投资额与生产消耗成本。 在此基础上，公司继续深化开发对技术水平和工艺要求更高的半导体薄膜沉积设备，是国内首家成功将量产型High-k 原子层沉积设备应用于28nm 节点集成电路制造前道生产线的国产设备公司，设备总体表现和工艺关键性能参数达到国际同类水平 ，并已获得客户重复订单认可，填补了我国在该项半导体设备上的空白。 公司也是国内少数能在短期内快速反馈并协助客户解决产线上技术问题的专用设备厂商之一，具备承担下一代光伏电池设备和半导体设备研发及产业化项目的技术储备和人才基础。
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SRII重磅推出两款ALD新品，满足泛半导体应用多功能性和灵活性的需求2022-01-26
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从夜视到“元宇宙”入口设备，ALD光学镀膜不断突破技术和市场边界2021-09-29
