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Plassys法国 Plassys 薄膜沉积和蚀刻设备PLASSYS 是一家成立于1987年的法国公司。其主要活动包括设计和制造薄膜沉积和离子研磨设备。 30 年来，许多著名的公共和私人研究中心一直依赖 PLASSYS 在真空技术和真空应用方面的专业知识和专有技术。 PLASSYS 的产品线范围涵盖热蒸发、电子束蒸发、溅射沉积、CVD 金刚石生长、离子枪辅助沉积和离子蚀刻系统。PLASSYS也是小规模生产系统的供应商。 我们的薄膜技术主要应用于半导体、超导体、传感器、摩擦和光学层行业。
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SJI-SEMI 尚积半导体无锡尚积半导体科技有限公司 是一家专业研发、生产半导体国产自研设备的厂商，主营设备包括金属溅射沉积(PVD)，加强型等离子化学气相沉积(PECVD)，等离子干法刻蚀(ETCH)三个领域，服务于为全球的功率器件 尚积半导体的氧化钒(VOx) 薄膜沉积，RF领域薄膜电阻关键工艺如氮化钽(TaN)等薄膜沉积，TC-SAW SiO2薄膜沉积，高真空吸气薄膜(Getter)沉积，技术参数均超越进口设备，在客户端已经量产 尚积半导体在IC领域积累了二十余年的丰富经验，在高深宽比填孔、均匀性优化、应力控制、薄膜的多样性及复杂性等多个技术领域有很深的造诣。 使命 专注于半导体细分领域的核心装备和关键工艺解决方案国产替代，并积极寻找并布局全新技术只做技术领导者。 发展历程2008年，团队进入MEMS领域,开发出氧化钒薄膜溅射，打破国外技术垄断，市占率遥遥领先2012年，团队开发出吸气薄膜溅射,打破国外技术垄断,成为该工艺国内的国产备供应商，市占率遥遥领先.2019
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上海衍梓上海衍梓智能科技有限公司 是一家半导体设备制造商，具备完整化学薄膜沉积技术领域工程经验与相关制程工艺经验，专注于半导体化学薄膜沉积设备制造与配套生产，致力于通过核心设备制造与再造为用户提供相关服务。
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Twente Solid State Technology（TSST）荷兰 TSST 脉冲激光沉积荷兰 Twente Solid State Technology BV（TSST）公司专注于为用户提供定制化的脉冲激光沉积系统（PLD），以及相关薄膜制备解决方案，公司具有20 多年研究与生产脉冲激光沉积系统的经验。 TSST与世界最大的纳米与微系统技术研究中心之一荷兰Twente大学MESA+ Institute保持着密切合作，开发出各种脉冲激光沉积技术中需要使用的核心技术。
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Leadmicro 微导科技公司形成了以原子层沉积（ALD）技术为核心，CVD等多种真空薄膜技术梯次发展的产品体系，专注于先进微米级、纳米级薄膜设备的研发、生产与应用。 自成立以来，公司通过不断吸纳国内外优秀人才和保持高水平研发投入，已在微米级、纳米级薄膜沉积核心技术领域具有丰富的技术积累。 公司产品率先用于光伏电池片生产过程中的薄膜沉积环节，具备优良的产能提升能力与产品性能，在保障光电转换效率的同时，有效帮助下游电池片厂商大幅降低了设备投资额与生产消耗成本。 在此基础上，公司继续深化开发对技术水平和工艺要求更高的半导体薄膜沉积设备，是国内首家成功将量产型High-k 原子层沉积设备应用于28nm 节点集成电路制造前道生产线的国产设备公司，设备总体表现和工艺关键性能参数达到国际同类水平 公司将持续围绕市场需求，深化自主创新，加快核心技术攻关，进一步拓展薄膜沉积技术的应用领域，推动高端技术装备的国产化、产业化，力争成为世界级的微纳制造装备领军企业。
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鹏城半导体鹏城半导体技术（深圳）有限公司，由哈尔滨工业大学（深圳）、北京琨腾科技有限公司以及有多年实践经验的工程师团队共同发起创建。 公司立足于技术前沿与市场前沿的交叉点，寻求创新与可持续发展，解决产业的痛点和国产化难题，争取产业链的自主可控。公司核心业务是半导体材料、工艺和装备的研发设计、生产制造。 公司已投放市场的部分半导体设备物理气相沉积（PVD）系列磁控溅射、电子束、热蒸发镀膜机，激光沉积设备PLD化学气相沉积（CVD）系列MOCVD、PECVD、LPCVD、微波等离子体CVD、热丝CVD、原子层沉积设备 ALD超高真空系列分子束外延系统（MBE）、激光分子束外延系统（LMBE）成套设备团簇式太阳能薄膜电池中试线、OLED中试设备（G1、G2.5）其他金刚石薄膜制备设备、合金退火炉、硬质涂层设备、磁性薄膜设备
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Picosun芬兰 Picosun 原子层沉积Picosun 公司是一家全球公司，一直致力于为行业提供最先进的ALD（原子层沉积）薄膜涂层解决方案。 借助Turn-key类型的生产流程和无与伦比的开创性专业知识（可追溯到ALD技术的被发明），Picosun公司的ALD解决方案不断为市场和客户带来未来的技术方案。
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H2SENSE 海卓赛思苏州海卓赛思科技有限公司（以下简称：海卓赛思）是国内专业从事薄膜氢气传感器研发和生产的高新技术企业。苏州和长沙两地分别建有特种薄膜传感器研发生产基地，年产特种薄膜传感器2500套。 目前，拥有近300㎡净化厂房（含黄光区），主要工艺设备包括光刻机、离子束沉积 (IBD)、光学镀膜机、PECVD、高真空气氛退火炉、HYBOND金丝球键合机、全自动标准气体配比输送系统、变压器油色谱分析仪 海卓赛思专注于特种薄膜传感器核心工艺技术的研发，申请国家专利24件，已获得发明专利授权6件。 其中，与国网陕西省电力公司、西安交通大学联合研制的《少油设备带电在线监测技术》，荣获国家电网公司科技进步奖1项，陕西省科技进步奖1项。 海卓赛思将继续潜心于特种薄膜传感器工艺技术的研发和创新，注重产品和服务品质，为客户提供各种专用氢气传感器与监测解决方案。
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新锐博纳米科技苏州新锐博纳米科技有限公司 是一家从事纳米结构薄膜制备设备的设计、制造、销售及其应用工艺研发与技术服务的高新技术企业。 公司以团簇(纳米粒子)束流技术在纳米制造上的规模化工业应用为目标，研发团簇束流技术相关的气相沉积、超浅层注入及表面分析的全套先进设备，开展纳米粒子束流系统与沉积技术的工业应用方案设计、技术服务与产品代工 ，发展纳米粒子束流在纳米光电与传感器件、微机电器件工业制程中的应用技术。 公司已开发完成具有现代化水平的团簇束流源及束流沉积系统的全套设备，形成了研究型与工艺开发型两个系列，并正在进行工业应用型设备的开发。 在应用技术方面，公司还开发了基于团簇束流沉积技术的纳米结构薄膜与传感器件的系列制备工艺，持有相关的技术知识产权。
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FHR Anlagenbau德国 FHR Anlagenbau GmbH - 薄膜技术领域先锋1991年，一群来自德累斯顿、在薄膜和微系统技术领域有着多年丰富经验的工程师充满热情的创立了公司，并确立了采用定制化设备实现先进功能膜层应用的经营宗旨 今天我们成为了薄膜厂商。从30年前的“少年期”以来，我们的客户群不断稳定增长，范围不仅涵盖知名的大规模制造商，也包括中小型“潜力股”企业。 我们的薄膜技术核心竞争力工程专业知识与应用单台设备经验实现系列设备的拓展能力一样，定制镀膜设备的制造FHR的核心竞争力。我们的设备以真空条件下的功能膜层沉积工艺为导向。 技术范围包括：反应和非反应磁控溅射热蒸发用于金属高速率沉积CVD 和PECVD氧化物和氮化物、用于沉积超薄功能膜层的原子层沉积(ALD), 其可在复杂三维表面实现均匀的膜层厚度用于表面处理和超高效率材料移除 材料专业知识材料专业知识对能够在多种不同基材上完美沉积功能膜层至关重要。因此，我们不仅提供镀膜设备，也同时提供所需耗材。
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