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Picosun芬兰 Picosun 原子层沉积Picosun 公司是一家全球公司，一直致力于为行业提供最先进的ALD（原子层沉积）薄膜涂层解决方案。 借助Turn-key类型的生产流程和无与伦比的开创性专业知识（可追溯到ALD技术的被发明），Picosun公司的ALD解决方案不断为市场和客户带来未来的技术方案。 PICOSUN ®ALD设备已在世界各地的许多领先行业中投入日常生产使用。
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SUPERALD 原速科技深圳市原速光电科技有限公司（Superald,LLC）是一家专注于原子层沉积（AtomicLayerDeposition，ALD）系统设计、工艺研发及技术咨询的高科技企业，为柔性显示、光学镀膜、太阳能电池及锂电池等领域的薄膜研发和生产提供优质的技术服务和一体化解决方案 公司目前有一支高水平的研发与服务团队，团队涵盖加拿大麦吉尔、荷兰代尔夫特理工、日本上智大学等知名学府归国人才，具备雄厚的技术开发和创新能力，严谨的结构设计和质量控制体系。国家高新技术企业认定。 公司拥有独立的ALD工艺开发部门，在薄膜材料研发方面经验丰富。实验室内拥有多台ALD设备用于薄膜开发，可为不同行业不同样品提供ALD代加工服务，可为客户提供最专业的材料开发技术支持。 原速将提供从ALD设备到工艺的全方位服务。
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CN-1韩国 CN1 通过积极的研发投资，已成为原子层沉积(ALD)设备的领先的供应商。经过十多年的集约开发，我们的设备设计和工艺技术得到了充分的验证和完善。 因此，在半导体、显示、生物技术和先进能源行业工作的高科技组织现在更青睐CN1 ALD系统，以满足他们最苛刻的纳米技术应用和生产需求。 CN1的ALD设备目前在美国、日本、新加坡、台湾、俄罗斯、中国、韩国等数百所大学、研究机构和企业使用。我们的成功和我们作为一个全球性公司的持续增长证明CN1确实可以成为顶尖的供应商。
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Annealsys法国 Annealsys 是一家领先的RTP和DLI -CVD / DLI -ALD系统制造商，用于硅和化合物半导体、纳米技术、MEMS、太阳能电池、玻璃等领域的研究生产应用的公司。 凭借15年的经验，我们的博士团队已经开发和优化了多个RTP, ALD和CVD工艺。 通过我们的应用和研发实验室，Annealsys提供工艺开发和工艺服务，我们可以根据客户的要求执行RTP, CVD和ALD工艺，或与客户合作开发新工艺，我们的工艺工程师团队可以开发或协助我们的客户在退火和沉积工艺 Annealsys公司于2004年在法国南部的蒙彼利埃成立，Annealsys通过全球销售和服务机构提供卓越的技术和过程客户服务。
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SRII 四方思锐智能思锐智能主要聚焦关键半导体前道工艺设备的研发、生产和销售，提供具有自主可控的核心关键技术的系统装备产品和技术服务方案。 公司产品包括原子层沉积（ALD）设备及离子注入（IMP）设备，广泛应用于集成电路、第三代半导体、新能源、光学、零部件镀膜等诸多高精尖领域。 2018年，公司完成对ALD技术发源地——芬兰倍耐克公司100%股权的收购工作。 思锐智能整合倍耐克海外前沿技术研发资源，开展ALD技术国内外联合研发与国内产业化落地工作，建立了完善的ALD产品体系，覆盖全球众多头部客户并在众多细分领域取得领先的市场竞争地位。 目前思锐智能及其子公司拥有300余项相关专利，在ALD技术及应用方面具备雄厚的技术积累。公司在推进ALD业务转型升级后，布局离子注入设备业务并取得突破。
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源展材料苏州源展材料科技有限公司创立于2020年，目前主要提供和开发用于化学气相沉积和原子层沉积薄膜材料所需的特种电子化学品–即CVD和ALD前驱体源，以支持工业界和科研院校在半导体、显示、纳米、新能源、催化等领域的工业应用和学术研究 公司具有从实验室小量级到规模化生产的能力，且在上海和苏州有完备的市场、销售、技术支持和客服等功能部门。
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鹏城半导体鹏城半导体技术（深圳）有限公司，由哈尔滨工业大学（深圳）、北京琨腾科技有限公司以及有多年实践经验的工程师团队共同发起创建。 公司立足于技术前沿与市场前沿的交叉点，寻求创新与可持续发展，解决产业的痛点和国产化难题，争取产业链的自主可控。公司核心业务是半导体材料、工艺和装备的研发设计、生产制造。 公司已投放市场的部分半导体设备物理气相沉积（PVD）系列磁控溅射、电子束、热蒸发镀膜机，激光沉积设备PLD化学气相沉积（CVD）系列MOCVD、PECVD、LPCVD、微波等离子体CVD、热丝CVD、原子层沉积设备 ALD超高真空系列分子束外延系统（MBE）、激光分子束外延系统（LMBE）成套设备团簇式太阳能薄膜电池中试线、OLED中试设备（G1、G2.5）其他金刚石薄膜制备设备、合金退火炉、硬质涂层设备、磁性薄膜设备
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Leadmicro 微导科技公司形成了以原子层沉积（ALD）技术为核心，CVD等多种真空薄膜技术梯次发展的产品体系，专注于先进微米级、纳米级薄膜设备的研发、生产与应用。 公司荣获工信部 2021 年第三批专精特新“小巨人”企业、2021 年苏南国家自主创新示范区独角兽企业、2020 年度江苏省小巨人企业（制造类）等荣誉称号，并被认定为江苏省原子层沉积技术工程技术研究中心 自成立以来，公司通过不断吸纳国内外优秀人才和保持高水平研发投入，已在微米级、纳米级薄膜沉积核心技术领域具有丰富的技术积累。 在此基础上，公司继续深化开发对技术水平和工艺要求更高的半导体薄膜沉积设备，是国内首家成功将量产型High-k 原子层沉积设备应用于28nm 节点集成电路制造前道生产线的国产设备公司，设备总体表现和工艺关键性能参数达到国际同类水平 公司将持续围绕市场需求，深化自主创新，加快核心技术攻关，进一步拓展薄膜沉积技术的应用领域，推动高端技术装备的国产化、产业化，力争成为世界级的微纳制造装备领军企业。
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FHR Anlagenbau德国 FHR Anlagenbau GmbH - 薄膜技术领域先锋1991年，一群来自德累斯顿、在薄膜和微系统技术领域有着多年丰富经验的工程师充满热情的创立了公司，并确立了采用定制化设备实现先进功能膜层应用的经营宗旨 我们的薄膜技术核心竞争力工程专业知识与应用单台设备经验实现系列设备的拓展能力一样，定制镀膜设备的制造FHR的核心竞争力。我们的设备以真空条件下的功能膜层沉积工艺为导向。 我们把工艺技术、机械设计、软件开发和自动化技术相结合。我们的特长是设计定制化镀膜设备以期产出具有竞争力的产品 (拥有成本)。 工艺研发专业知识我们拥有多名具备广泛技术背景的研发工艺师。 技术范围包括：反应和非反应磁控溅射热蒸发用于金属高速率沉积CVD 和PECVD氧化物和氮化物、用于沉积超薄功能膜层的原子层沉积(ALD), 其可在复杂三维表面实现均匀的膜层厚度用于表面处理和超高效率材料移除 材料专业知识材料专业知识对能够在多种不同基材上完美沉积功能膜层至关重要。因此，我们不仅提供镀膜设备，也同时提供所需耗材。
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CASAcme 中科艾科米中科艾科米（北京）科技有限公司 坐落于北京怀柔科学城，公司致力于纳米材料表征、纳米材料制备技术的研发；核心团队在相关领域的科学研究及科研仪器设备的研制方面具有十多年的技术积累和扎实的基础，掌握目标仪器装备的多项核心技术 主要产品包括超高真空变温扫描探针显微镜系统（UHV-VT-SPM SYSTEM）、原子层沉积系统（ALD SYSTEM）、光学兼容超高真空低温扫描探针显微镜-分子束外延联合系统（UHV-LT-SPM-MBE 主要产品系统：闭循环无液氦扫描探针显微镜系统；光耦合qPlus型扫描探针显微镜系统；分子束外延系统；超高真空VT-SPM系统；低温扫描探针显微镜-分子束外延联合系统；原子层沉积系统部件：电子束蒸发源；裂解源
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应用于气体传感器的新型沉积超薄层工艺技术2020-07-02
