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光刻工艺优化

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严选光刻工艺优化厂家,提供从光刻工艺优化设计、研发、生产制造深耕产品,打造值得信赖的传感器品牌,解决选品、技术支持问题,实现采购放心、售后无忧。
  • DJEL 东方晶源

    主要产品OPC计算光刻产品OPCOPC是连接芯片设计和制造的关键技术,应用于光刻掩模版优化及光刻机光源优化,是决定产品良率的重要环节之一。 东方晶源OPC产品采用先进的全芯片反向光刻技术(ILT),通过深度学习和大数据对光刻制程精确建模,优化工艺窗口,确保良率;同时基于HPO的整体设计理念具有上下游的可扩展性,无缝连接设计和制造,实现芯片良率的显著提升 SEpA-i系列电子束缺陷检测设备(EBI),面向300mm硅片的主流工艺制程。 PanGen Sim严格光刻仿真软件PanGen Sim严格光刻仿真软件PanGen Sim采用物理模型对光刻过程进行建模,精确模拟光刻工艺,帮助光刻工艺工程师进行新技术节点研发和改进产品工艺,同时大大减少研发成本 YieldBook将会成为横跨设计、生产、封测的数据平台,更将进化为涵盖全方位设计和工艺优化的综合性平台,成为芯片生产的基础数据平台。
  • iRay 奕瑞科技

    这两个元件均采用非晶硅制造而成,通过光刻工艺安装在大面积玻璃基板上。柔性传感器用于 X 射线成像的柔性图像传感器由二维结构组成,其中 TFT和光电二极管均安装在柔性基板。 奕瑞为医疗动态领域设计的探测器具有较高的检测量子效率(DQE),在低射剂量条件下,还能有效保证图像质量的优化。
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