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源展材料苏州源展材料科技有限公司创立于2020年，目前主要提供和开发用于化学气相沉积和原子层沉积薄膜材料所需的特种电子化学品–即CVD和ALD前驱体源，以支持工业界和科研院校在半导体、显示、纳米、新能源、催化等领域的工业应用和学术研究
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SJI-SEMI 尚积半导体无锡尚积半导体科技有限公司 是一家专业研发、生产半导体国产自研设备的厂商，主营设备包括金属溅射沉积(PVD)，加强型等离子化学气相沉积(PECVD)，等离子干法刻蚀(ETCH)三个领域，服务于为全球的功率器件 尚积半导体的氧化钒(VOx) 薄膜沉积，RF领域薄膜电阻关键工艺如氮化钽(TaN)等薄膜沉积，TC-SAW SiO2薄膜沉积，高真空吸气薄膜(Getter)沉积，技术参数均超越进口设备，在客户端已经量产
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Tystar美国 Tystar 公司与世界一流大学和研究所合作开发多个有挑战性的化学气相沉积项目。近期Tystar取得的专有化学气相沉积解决方案包括：超高温氧化炉、锗硅、碳纳米管垂直阵列、谐振腔、侧向氧化。 炉系统布局图可以根据客户洁净室规划进行设计；够兼容2-8〃衬底，只需更换晶舟即可，而不用更换其它设备；出色的工艺控制系统可以完全保证优良的薄膜均匀性和最大程度降低颗粒生成；享有专利的恒温腔室设计能够有效降低特气和电能消耗
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RISES 昆山睿盛斯针对逻辑、存储、功率器件、光学、微显示等领域的关键工艺道次，研发了一系列等离子体刻蚀系统、薄膜沉积系统，为客户提升产能、优化工艺提供稳定可靠的设备与完善的技术支持。 产品涵盖：等离子刻蚀（Etch）、物理气相沉积（PVD）、化学气相沉积（CVD）、氧化/扩散、清洗、灰化等半导体工艺装备；平板显示制造装备和气体质量流量控制器等核心零部件。
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Haichuang 海创智能主要产品永久键合设备Bonder、临时键合/解键合设备Debonder、物理气相沉积设备PVD、等离子增强化学气相沉积设备PEVCD、涂胶显影设备Coater-developer、刻蚀机Etcher、半导体检测
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鹏城半导体公司已投放市场的部分半导体设备物理气相沉积（PVD）系列磁控溅射、电子束、热蒸发镀膜机，激光沉积设备PLD化学气相沉积（CVD）系列MOCVD、PECVD、LPCVD、微波等离子体CVD、热丝CVD、原子层沉积设备
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MPA法国 MPA 是一家专业从事CVD/CVI过程和化学品处理的物理和化学工程的独立公司，为涂层和陶瓷基复合材料开发定制化的化学气相沉积(CVD和CVI)交钥匙系统和解决方案。
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上海科电贸易科电电子测量系统及设备部通过代理多个国际知名品牌，针对不同行业的应用提供射频与微波、5G通讯、音视频与声学、电力电子、电磁兼容等测试仪器、解决方案及系统集成等专业服务，并有金刚石研发专用微波等离子化学气相沉积系统设备
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国家智能传感器创新中心该中试线以国产设备为主，具备晶圆键合、晶圆减薄、干湿法刻蚀、物理和化学气相沉积、原子层沉积、化学机械研磨、湿法清洗、自动化量测等先进传感器和晶圆级3D集成技术的核心工艺能力，同时为国产装备提供验证平台，
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HC Semitek 华灿光电目前LED外延片生长技术主要采用有机金属化学气相沉积方法。LED外延片衬底材料是半导体照明产业技术发展的基石。 蓝宝石衬底片对蓝宝石晶体毛坯按特定要求加工制作的基片，可以用金属氧化物化学气相沉积（MOCVD）等技术在基片上外延生长一层单晶薄膜，进一步制作各种元器件。
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绝缘基底上直接生长超长石墨烯纳米带2022-06-07
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研究人员利用一氧化碳廉价生产高质量石墨烯2022-05-17
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研究人员利用一氧化碳廉价生产高质量石墨烯2022-05-17
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国内研究所制备出新型二维层状材料家族新材料2020-08-21
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中科院金属所发现二维层状MoSi2N4材料家族2020-08-10
