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SENTECH Instruments德国 Sentech 等离子刻蚀原子层沉积SENTECH Instruments 位于德国柏林领先的科技园区Adlershof,已成为等离子蚀刻和沉积以及薄膜计量设备生产的全球市场领导者之一。 SENTECH Instruments开发,制造和销售全球先进的等离子体蚀刻,PECVD,原子层沉积,薄膜测量(椭圆偏振光谱仪,光谱反射计和激光椭圆仪)和光伏的高质量仪器。
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国家智能传感器创新中心该中试线以国产设备为主,具备晶圆键合、晶圆减薄、干湿法刻蚀、物理和化学气相沉积、原子层沉积、化学机械研磨、湿法清洗、自动化量测等先进传感器和晶圆级3D集成技术的核心工艺能力,同时为国产装备提供验证平台,
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FHR Anlagenbau我们的设备以真空条件下的功能膜层沉积工艺为导向。我们致力于实现应用于工业领域的新型研发技术成果。 技术范围包括:反应和非反应磁控溅射热蒸发用于金属高速率沉积CVD 和PECVD氧化物和氮化物、用于沉积超薄功能膜层的原子层沉积(ALD), 其可在复杂三维表面实现均匀的膜层厚度用于表面处理和超高效率材料移除 (高速率刻蚀)的等离子体增强技术最终实现了稳定且适配生产的工艺。 我们不断探索,直至客户对于功能膜层质量充分满意。材料专业知识材料专业知识对能够在多种不同基材上完美沉积功能膜层至关重要。因此,我们不仅提供镀膜设备,也同时提供所需耗材。 比如,溅射靶材由专家研发且在内部制造,对于初始材料的成分和晶体结构将对所要制备的功能膜层的质量产生影响,继而影响客户的最终产品,他们有着非常清楚的认知。
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西北工业大学宁波研究院西北工业大学宁波研究院MEMS加工平台位于宁波市国家高新区智造港A区,拥有世界顶级SPTS深硅刻蚀机、SUSS MA/BA8 Gen4光刻机、SUSS XB8键合机、全自动涂胶显影机、原子层沉积设备、两台电子束蒸镀设备 SiO2/Al2O3等介质)、两台激光隐切设备(硅/玻璃)、湿法腐蚀与清洗系统、椭偏仪、台阶仪等MEMS工艺专业设备,设备兼容8/6/4/2英寸晶圆加工,面向全国提供MEMS芯片结构设计、镀膜、光刻、刻蚀
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