日本弯道超车向美国取经 最先进的2nm EUV工艺学到手

科技观不止 20230531

  • EUV光刻机
  • GAA晶体管
  • 2nm工艺

6月1日，在半导体工艺落后世界先进水平20多年之后，日本去年决心要重振晶圆制造，丰田、索尼、瑞萨等8家行业巨头联合成立了Rapidus公司，计划最快在2025年搞定2nm EUV工艺。


日本当前的工艺也就是45nm水平，直接进入2nm无异于弯道超车，为此Rapidus公司跟美国IBM公司达成了合作，要从后者那里获得2nm技术授权。

Rapidus公司将派出100名工程师到IBM公司学习，将获得2nm工艺生产所需的GAA环绕栅极晶体管技术，这是实现2nm的关键。


此前的4月份Rapidus已经派出一批工程师到IBM商谈合作了。


根据Rapidus公司的建设计划，他们将在日本北海道地区建立晶圆厂，2023年9月份开工，2024年6月份完成厂房基础设施，并开始洁净室建设。


2025年4月开始运营一条试验性生产线，并引进EUV光刻机等设备，目标是2027年开始大规模量产2nm工艺——这个进度比台积电、三星及Intel量产2nm节点工艺只晚了1-2年。


不仅要量产2nm工艺，Rapidus公司还计划在2030年代实现每年1万亿日元的营收，约合人民币510亿或者72亿美元。


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