英伟达领头增加投片量 台积电先进制程产能利用率大幅提升
集微网消息，据台媒经济日报报道，业界传出，在英伟达领头增加AI芯片投片量带动下，台积电先进制程产能利用率近期大幅提升，5纳米稼动率从五成多提高到七至八成左右；7纳米产能利用率也从原本仅三、四成，逐步拉升至五成左右。
业界人士指出，台积电5纳米制程月产能约13万片，之前产能利用率估计一度降到五成多，近期开始加温，目前月投片量估算约9万多至10万多片，换算产能利用率拉升至七至八成左右。
7纳米制程方面，供应链认为，台积电7纳米之前几个月产能利用率最低可能降至仅三到四成，但目前已经回到约五成左右水平。
近日业内消息人士透露，英伟达大量订单的涌入，使得台积电5纳米制程平台的产能利用率几乎达到满载。英伟达正在向台积电紧急订购其H100和A100，以及专门为中国大陆市场设计的H800和A800。“英伟达的订单已经提振了台积电7/6纳米工艺的产能利用率，晶圆厂5/4纳米工艺的利用率也在快速上升，几乎达到了满负荷生产状态。”消息人士补充说道。
据悉，英伟达A100采用台积电7纳米制程节点，而去年5月开始出货的H100则基于台积电4N制程节点（为英伟达设计的5纳米制程节点的优化版本）。
（校对/王云朗）
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