IWAPS 2023 | 第七届国际先进光刻技术研讨会举办时间通知

科技笔记 20230612

  • 半导体
  • 集成电路
  • 光刻技术


    近年来，集成电路产业已经成为世界各国越来越重视的战略性产业，尤其在中国，集成电路产业受到了前所未有的关注，并在政策和资本的推动下获得了蓬勃发展。基于这样的形势，国际先进光刻技术研讨会(International Workshop on Advanced Patterning Solutions, IWAPS)应运而生。IWAPS为来自国内外半导体工业界、学术界的资深技术专家和优秀研究人员等提供了一个技术交流平台，参会者可以就材料、设备、工艺、测量、计算光刻和设计优化等主题分享各自的研究成果，探讨图形化解决方案，研讨即将面临的技术挑战。

    自2017年以来，IWAPS已经在全国各地成功举办六届。会议投稿、会议报告与参会人数逐年增加，行业反响热烈，业已成为国内高端光刻技术领域的重要会议。此外，IWAPS自2020年起已被IEEE收录，接收论文将被送检IEEE Xplore与EI。欢迎大家踊跃报名、投稿！



第七届IWAPS将于2023年10月26-27日于浙江丽水举行


欢迎各位学术和产业届的朋友莅临指导，积极投稿演讲



参会名额有限，有意者请及时报名参会


官网报名链接：

https://www.iwaps.org/cn/index/10

（点击阅读原文可跳转链接）



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扫码报名

手机扫描二维码，通过邀请函报名


-主办单位-


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中国集成电路

创新联盟

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中国光学学会


-承办单位-

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中国科学院微电子研究所



-协办单位-

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丽水经济技术开发区

管理委员会

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浙江富浙资本

管理有限公司


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广东省大湾区集成电路与系统应用研究院

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南京诚芯集成电路技术研究院




-往届精彩回顾-


IWAPS 2017 北京

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链接：首届国际先进光刻技术研讨会胜利闭幕


IWAPS 2018 厦门

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链接：第二届国际先进光刻技术研讨会胜利闭幕


IWAPS 2019 南京

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链接：第三届国际先进光刻技术研讨会在南京开幕


IWAPS 2020 成都

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链接：第四届国际先进光刻技术研讨会在成都开幕


IWAPS 2021 佛山

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链接：第五届国际先进光刻技术研讨会在广东佛山开幕


IWAPS 2022 北京 线上

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                                                链接：第六届国际先进光刻技术研讨会顺利闭幕



-征稿范围-


i. Optical Lithography

ii. Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography

iii. Advanced Patterning Technologies

iv. Metrology, Inspection and Testing

v. Design and Technology Co-optimization and Design for Manufacturability

vi. Materials

vii. Process


-往年论文集-

IWAPS 2020： 

https://ieeexplore.ieee.org/xpl/conhome/9286788/proceeding

IWAPS 2021：https://ieeexplore.ieee.org/xpl/conhome/9670881/proceeding

IWAPS 2022: 

https://ieeexplore.ieee.org/xpl/conhome/9971792/proceeding


IWAPS 2023 会议筹备工作已经展开

更多信息，敬请关注会议官网

www.iwaps.org/cn

（请复制链接后在浏览器中打开）

以及“光刻人的世界”微信公众号

我们会随时更新



官网报名链接：

https://www.iwaps.org/cn/index/10

（点击阅读原文可跳转链接）



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