台积电美国厂导入首台EUV光刻机
近日,有媒体报道称,台积电美国亚利桑那州厂导入了首台极紫外光(EUV)光刻机。
据了解,2020年5月,台积电宣布在美国亚利桑那州建厂,最初承诺投入120亿美元。去年12月,台积电将投资额增加到400亿美元,并将所建工厂分为两座,分别为5nm及3nm芯片代工厂。此前,台积电曾宣布5nm工厂预计将在2024年全面投入运行,每月生产2万片芯片,该工厂也被媒体喻为“美国第一家先进制程晶片厂”。
然而,由于台积电5nm量产时间一拖再拖,在2024年量产之时,恐难以满足当下市场对于先进制程的需求。因此,业内专家预测,此次台积电美国亚利桑那州厂导入的首台EUV光刻机,是为3nm量产做准备,3nm量产或将提前。
(来源:中国电子报、电子信息产业网/JSSIA整理)
查看全文
作者最近更新
-
英特尔将为车用芯片设计厂商Valens代工江苏半导体协会2024-01-11
-
《国家汽车芯片标准体系建设指南》发布江苏半导体协会2024-01-11
-
芯原股份拟募资18.08亿元投建Chiplet及新一代IP研发项目江苏半导体协会2024-01-10
评论0条评论