三星第二代3nm工艺SF3已开始试生产
1 月 21 日消息,Chosun 据业内人士介绍,三星电子代工厂已开始针对其第二代 3nm 级工艺 SF3 试生产。据报道,该公司计划在未来六个月内将良率提高到 60% 以上。

消息人士称,三星正在进行测试 SF3 节点上制造的芯片的性能和可靠性;第一个使用三星 SF3 该工艺的芯片预计将是专门为可穿戴设备设计的应用处理器,计划在今年晚些时候发布 Galaxy Watch 7 等产品。
同时,Chosun 预计该公司还将为明年做准备 Galaxy S25 搭载系列智能手机的智能手机 Exynos 2500 使用此节点的芯片。
三星此前表示,计划是 2024 今年下半年开始大规模量产 SF3 芯片;2023-2024 年将以 3nm 以生产为主,即 SF3 (3GAP) 及其改进版本 SF3P (3GAP ),而且公司也计划了 2025-2026 年开始推出 2nm 节点。
SF3据三星介绍 节点可以在同一单元内实现不同的环绕栅(GAA)晶体管纳米板的通道宽度提供了更高的设计灵活性。它还可以通过优化设计,为芯片带来更低的功耗和更高的性能,并增加晶体管的密度。
通过 TrendForce 数据显示,台积电去年第三季度占据了全球晶圆OEM市场 57.9% 三星电子的份额 12.4% 股份排名第二,两家公司之间的差距超过了 40 个百分点。

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