ASML和IMEC启用联合High-NA EUV光刻实验室

睡前伴科技 20240604

  • 半导体制造
  • EUV光刻

据ASML官网报道，6月3日，比利时微电子研究中心（imec）与阿斯麦（ASML）荷兰费尔德霍芬宣布（Veldhoven）开设联合High-NA EUV光刻实验室（High NA EUV Lithography Lab），由ASML和imec共同运营。

声明称，经过多年的建设和整合，实验室准备为领先的逻辑和存储芯片制造商和先进的材料和设备供应商提供第一个原型高值孔径EUV扫描仪（TWINSCAN EXE：5000)及周围的处理和测量工具。

据悉，联合实验室的开放是High-NA 预计2025-2026年将实现EUV批量生产准备的里程碑。为领先的逻辑和存储芯片制造商提供High-NA EUV原型扫描仪及周边工具(包括涂层及开发轨道、测量工具、晶圆及掩膜处理系统)、imec及ASML支持其降低技术风险，并在其生产晶圆厂运行前开发私有High-NA EUV用例。此外，还将访问更广泛的材料和设备供应商生态系统以及imec的高值孔径图案计划。

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