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EUV光刻

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严选EUV光刻厂家,提供从EUV光刻设计、研发、生产制造深耕产品,打造值得信赖的传感器品牌,解决选品、技术支持问题,实现采购放心、售后无忧。
  • Energetiq / Hamamatsu

    客户的专门客户支持创新,革新光谱范围内的高亮度,从1纳米到2500纳米甚至更高,具有超高亮度激光驱动光源(LDLS),激光驱动的可调光源(顶级域名),色度光谱引擎(CSE™)并且无电极z-Pinch EUV 170 - 2500纳米 波长从EUV到近红外100微米 超高光谱辐射的小等离子体尺寸10,000多个小时稳定、可靠、持久主要产品LDLS 激光驱动光源极其明亮,可有效收集从最深的紫外线到可见光谱以外的光线 Electrodeless Z-Pinch™ EUV光源紧凑、可调且可靠的光源,用于产生极远紫外线和软x射线光。 产品优势高亮度激光驱动光源技术提供170纳米至2500纳米的高辐射高重复率紧凑型无电极Z-Pinch EUV光源超过10,000小时的运行时间广泛的波长范围/升级途径复杂系统的“即插即用”选项主要应用半导体制造晶片计量学 ,缺陷检查,椭偏仪,EUV光刻术,光致抗蚀剂显影传感器校准和测试光学测试,像素阵列,光谱灵敏度,结构错误,遥感优化科学研究与发展光谱学,材料分析,疾病筛查,手术可视化,环境分析 中国业务滨松光子学商贸(
  • Difrotec

    我们在光学系统和光学图像处理的数学建模,开发用于DUV和EUV光刻的高精度光学系统的组装,调整和测试的计算机模型的开发方面拥有30多年的经验,在点衍射波阵面研究方面已有8年以上的经验测试各种参数的光学元件
  • Lexitek

    Ebstein 博士发明了近指数匹配光学器件、光子和辐射计数探测器、用于锥形束计算机断层扫描和粒子放射治疗的闪烁辐射探测器,以及EUV光刻掩模检测的新方法,拥有多项专利。
  • KMLabs

    到2009年,KMLabs率先推出了第一个商业高谐波源,通过强飞秒激光器的频率上变频产生相干的EUV光束。这演变成我们的 XUUS断续器产品线,在光谱学、成像和材料计量方面拥有大量已得到验证的应用。 这项投资的动机是需要与下一代光刻相关的用于检测和计量的高平均功率EUV / SXR相干源,以及需要更好的纳米计量分析工具。
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