Intel 3工艺官方揭秘最新数据

芯之家 20240614

  • 半导体与集成电路
  • EUV光刻

6月13日消息,Intel 4制造工艺只代号Meteor Lake的第一代酷睿Ultra被使用过一次,然后轮到Intel了 3.已如期大规模量产,首次用于代号Sierra Forest的最强6能效核版本,第三季度推出的代号Granitee Rapids最强6性能核版本也将使用。

根据Intel的最新官方数据,Intel 与Intel相比,3. 4逻辑缩小缩小约10%(可理解为晶体管尺寸),每瓦性能(即能效)提高17%。

Intel解释说,目前半导体行业的惯例是,工艺节点的命名不再是基于晶体管的实际物理特征,而是基于一定比例的性能和能效的提高。

大致可以理解为,Intel 3.性能水平大致相当于其他厂家的3nm工艺。

Intel 其实Intel3就是Intel 升级版4的主要变化之一是EUV极紫外光刻的使用更加熟练,EUV在更多的生产过程中使用。

二是引入更高密度的设计库,通过降低通孔电阻,提高晶体管驱动电流,优化连接技术堆栈。

此外,由于Intel, 4的实践经验,Intel 3.产量增长更快。

Intel未来还将推出Intel 满足客户多样化需求的多个演化版本。

其中,Intel 3-T将采用硅通孔技术,对3D堆叠进行优化;

Intel 3-E将扩展更多功能,如射频、电压调节等;

Intel 3-PT将在增加硅通孔技术的同时,实现至少5%的性能提升。

Intel强调,Intel 3是一个重要的节点,大规模生产标志着“四年五个工艺节点”计划进入“冲刺阶段”,也是Intel开放OEM的第一个节点。

接下来,Intel将开启半导体的“埃米时代”。

Intel Arrow应用于20A首发应用 2024年下半年,Lake消费级处理器量产发布。

Intel Intel18A 2025年将使用20A升级版代号Clearwater Forest服务器处理器,以及代号Panther Lake的消费级处理器,并大规模向OEM客户开放。

再往后,就是Intel 14A。


声明:转载此文是出于传递更多信息之目的。若有来源标注错误或侵犯了您的合法权益,请与我们联系,我们将及时更正、删除,谢谢。

查看全文

点赞

芯之家

作者最近更新

  • 泓川科技光谱共焦传感器高精度双探头对射法在透明PE涂层厚度测量中的应用案例
    芯之家
    03-17 12:49
  • 紫外线辐射传感器:为环保监测注入 “智慧” 力量
    芯之家
    02-07 16:00
  • SK海力士拟投资近500亿元建设芯片工厂
    芯之家
    2024-07-29

期刊订阅

相关推荐

  • 英飞凌高价收购赛普拉斯后将成全球第八大芯片公司

    2019-06-04

  • 霍尔效应曲轴位置传感器应用原理

    2019-07-09

  • 苹果高管访问三星商讨iPhone芯片潜在短缺问题

    2019-07-19

  • 华为海思正为PC开发更多芯片 至少采用7纳米工艺

    2019-08-11

评论0条评论

×
私信给芯之家

点击打开传感搜小程序 - 速览海量产品,精准对接供需

  • 收藏

  • 评论

  • 点赞

  • 分享

收藏文章×

已选择0个收藏夹

新建收藏夹
完成
创建收藏夹 ×
取消 保存

1.点击右上角

2.分享到“朋友圈”或“发送给好友”

×

微信扫一扫,分享到朋友圈

推荐使用浏览器内置分享功能

×

关注微信订阅号

关注微信订阅号,了解更多传感器动态

  • #{faceHtml}

    #{user_name}#{created_at}

    #{content}

    展开

    #{like_count} #{dislike_count} 查看评论 回复

    共#{comment_count}条评论

    加载更多

  • #{ahtml}#{created_at}

    #{content}

    展开

    #{like_count} #{dislike_count} #{reback} 回复

  • #{ahtml}#{created_at}

    #{content}

    展开

    #{like_count} #{dislike_count} 回复

  • 关闭
      广告