Imec率先实现基于EUV光刻的晶圆级固态纳米孔制造

这项技术突破为生命科学和医疗健康行业提供了可扩展、高精度的生物传感器应用方案。

Imec在300毫米晶圆上首次采用极紫外光刻（EUV）技术，成功实现晶圆级固态纳米孔的制造。该进展标志着纳米孔技术从实验室阶段迈向工业化平台，适用于生物传感、基因组学与蛋白质组学等多个领域。
固态纳米孔长期被视为基因组学和蛋白质组学的颠覆性工具。然而，由于孔径制造中的不一致性和集成挑战，其尚未实现量产。Imec的这一成果为兼容CMOS的高通量生物传感器阵列提供了技术基础，为个性化医疗、即时诊断以及分子数据存储的发展提供了新的可能。
通过EUV光刻技术，Imec在300毫米晶圆上制造出孔径约10纳米的均匀纳米孔，整个晶圆范围内一致性极高。该工艺未来有望实现小于5纳米的孔径，随着集成优化的推进，性能有望进一步提升。电气和生物分子易位测试结果显示，其信噪比达到6.2，达到分子检测所需标准。
“Imec具备将EUV光刻技术——传统上用于存储和逻辑器件制造——成功应用于生命科学领域的独特能力，”该研究的第一作者兼研发项目经理Ashesh Ray Chaudhuri表示，“我们已展示出在分子传感尺度下大规模制造固态纳米孔的能力，这为未来高通量生物传感器阵列的广泛应用铺平了道路。”

Imec是全球领先的半导体技术研究与创新中心，依托先进研发设施和6500余名专业人员，推动半导体系统、人工智能、硅光子学、传感与连接等领域的前沿发展。

Imec的创新成果广泛服务于多个行业，涵盖计算、健康、汽车、能源、信息娱乐、工业、农业食品及安全。其IC-Link平台为客户提供从概念设计到大规模生产的全流程芯片研发支持，助力实现高度定制化的技术解决方案。

Imec与全球半导体产业链中的领先企业，以及佛兰德斯地区和世界各地的科技公司、初创企业、学术界及研究机构保持密切合作。Imec总部位于比利时鲁汶，并在比利时、欧洲多国及美国设有研究设施，同时在全球三大洲设有代表机构。2024年，Imec全年营收达到10.34亿欧元。

欲了解更多详情，请访问：www.imec-int.com

完整新闻稿链接：Imec新闻稿

稿源：美通社

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