SEMICON现场直击：日立展示高分辨扫描电镜，强调检测能力与系统整合
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日立发布 SU9600电镜，分辨率达0.6nm。针对半导体检测痛点，推出"OneHitachi"解决方案。未来将聚焦售后与产品整合，并呼吁加强行业人才培养。
SEMICON现场直击：日立展示高分辨扫描电镜，强调检测能力与系统整合
在SEMICON China 2026展会现场，仪器信息网对日立科学仪器（北京）有限公司市场部副部长周鸥进行了专访。周鸥透露，日立此次展出的亮点产品之一是最新推出的SU9600扫描电子显微镜，这是SU9000系列的升级版本。
SU9600在1000伏减速模式下的分辨率从0.7纳米提升至0.6纳米，其探测器设计与扫描模式也进行了优化，能够更好地满足当前半导体制造中不断缩小的工艺节点对高分辨率的严苛需求。除SU9600外，日立还展示了包括纳米探针系统与聚焦离子束（FIB）设备等在内的检测与制样工具。
围绕当前半导体检测领域的主要挑战，周鸥指出，核心难题集中在“样品可见性”与“缺陷可辨性”两个层面。所谓“样品可见性”，是指必须借助FIB、离子研磨等制样系统，将待测区域暴露出来；而“缺陷可辨性”则依赖于具备高空间分辨率的SEM与TEM设备，以精准识别微观缺陷并分析其形成机制，从而帮助提升芯片良率。
对于化合物半导体及先进封装技术而言，同样需要结合多种检测手段，例如离子研磨与FIB，以确保分析的全面性和准确性。
周鸥进一步表示，日立高新技术集团此次联合旗下多个业务单元参展，展示了涵盖光学缺陷定位、X射线缺陷分析以及刻蚀与制造设备在内的多元化产品线，打造了一个名为“One Hitachi”的一体化解决方案平台。
未来一到两年内，日立的战略方向将聚焦于提升客户满意度，完善售后服务体系，并强化内部各业务部门的协同，推动更系统化的解决方案输出。此外，周鸥也强调了人才培养的重要性，建议半导体企业与设备厂商携手推动培训机制的建立，以全面提升行业在检测与分析方面的能力。
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