三星电子美国泰勒厂启动EUV光刻设备测试

创芯人 20260408

  • 晶圆厂

三星电子美国泰勒厂启动EUV光刻设备测试

据韩国媒体报道，三星电子设于美国得克萨斯州泰勒市的2纳米先进制程晶圆厂，目前已正式进入试运行阶段。该工厂的极紫外光（EUV）光刻设备调试工作已全面展开，同时蚀刻与沉积工艺的关键设备也正在按计划分批安装，标志着该厂正稳步推进向初步运行及2027年全面量产的阶段。

行业消息显示，泰勒厂初期设定的2纳米工艺月产能为2万片晶圆，现已调整为5万片。按照当前规划，该工厂在2027年有望将月产能提升至10万片，进一步提升三星在先进半导体制造领域的全球竞争力。

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