三安光电突破先进封装散热技术瓶颈,加速AI芯片效能升级

不颓废科技青年 20260521

  • 碳化硅
  • 人工智能
当前,AI芯片功耗持续攀升,CoWoS等主流封装方案的硅中介层已触及散热极限,材料创新成为破解先进封装瓶颈的核心。

三安光电突破先进封装散热技术瓶颈,加速AI芯片效能升级

随着人工智能芯片计算能力的不断提升,其功耗也同步上升,传统CoWoS等封装方案中的硅中介层已面临散热性能极限。在此背景下,材料层面的技术创新成为突破先进封装瓶颈的关键。据Fortune Business Insights预测,2025年全球先进封装市场价值将达到423亿美元,到2034年有望增长至704亿美元。高算力芯片的发展趋势正为先进封装产业注入强劲动能。

在化合物半导体领域具备全产业链布局的三安光电,积极布局碳化硅、金刚石等宽禁带材料,重点围绕AR光学、中介层及热沉三个核心方向展开研发,已建立起在先进封装领域的差异化技术优势。目前,多项关键成果正进入送样及批量交付阶段,为全球AI芯片性能优化提供有力支持。

宽禁带材料赋能AR光学衬底,夯实封装基础

在AR光学衬底领域,碳化硅凭借其折射率(约2.7)远高于传统玻璃(约2.0),以及热导率高出玻璃百倍的优势,展现出卓越的光学与热传导特性。三安光电整合Micro LED与碳化硅光学材料制造能力,其8英寸碳化硅光学衬底已通过客户验证,12英寸产品则实现小批量交付,为AR设备性能提升提供关键材料支持。

碳化硅中介层攻克散热难题,匹配高端AI封装需求

碳化硅中介层以其热导率约为硅的三倍,有助于降低GPU结温20–30°C,同时减少约30%的散热成本,成为破解高算力芯片散热难题的有效方案。当前,三安光电正与头部客户合作推进12英寸碳化硅中介层在下一代AI芯片封装中的验证工作,预计将成为先进封装领域的主流技术路径。

双材料热沉布局,满足多场景散热需求

在热沉材料方面,三安光电同步推进金刚石与碳化硅两条技术路径,覆盖多样化的散热应用场景。其中,金刚石热沉基板热导率高达2300 W/(m·K),在大功率激光器中相比陶瓷基板可显著降低热阻,并已通过1000小时老化测试并实现批量交付;碳化硅热沉产品亦已完成送样测试,正逐步推进商业化。

完善全链产能布局,支撑技术规模化落地

产能建设是技术产业化的重要保障。三安光电已在湖南与重庆建成两大核心生产基地,形成涵盖衬底、外延到模块的全链条制造体系。湖南基地具备月产16000片6英寸碳化硅芯片、1000片8英寸衬底及2000片8英寸外延片的能力,8英寸碳化硅芯片产线已实现通线量产;重庆基地则拥有月产3000片8英寸碳化硅衬底的产能,正逐步释放供给能力。

三安湖南基地已推出覆盖650V至2000V全电压等级的碳化硅二极管产品,累计出货量达4亿颗,投产三年内销售收入接近20亿元,在国内碳化硅功率器件市场占据领先地位,为先进封装材料的大规模应用提供了坚实的市场基础。

依托宽禁带材料技术优势,三安光电持续布局前沿工艺,推动核心材料突破,以本土化方案支撑全球AI芯片效能提升,助力先进封装产业迈向更高层次。

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