【惠然微电子】邀请您相聚第十六届纳博会670展位！

纳博会 20260626

第十六届中国国际

纳米技术产业博览会

2026年10月21-23日

苏州国际博览中心

中国国际纳米技术产业博览会（简称“纳博会”）自2010年举办首届以来，已连续在苏州工业园区成功举办15届，累计邀请169名国内外院士（其中诺奖得主3人）、177616位参展参会嘉宾、8250多家参展企业，论坛报告达3578场。CHInano 2026将于2026年10月21-23日再度启航，为全球产业界搭建洞察趋势、汇聚资源、驱动合作的核心平台。

展商推荐

展位号：670

惠然微电子技术（无锡）有限公司

公司介绍

惠然微电子总部位于无锡,凭借电子光学核心优势专注于电子東的研发与生产。公司积累了多项核心技术,荣获"专精特新"“国家高新企业"等多项茉誉及资质。核心成员拥有世界一流半导体设备公司的产品研发和应用经验,研发人员占比70%,硕博占例高达38%,具备有效提升晶圆良率的软硬件全面解决方案,致力于为半导体产业提供高分辨、高能效的电子東量检测设备(半导体关键尺寸量测设备CD-SEM、缺陷检测设备EB1、缺陷复检设备DR-SEM)和科学仪器(场发射扫描电子显微镜SEM)以及微观数据人工智能分析平台。

产品介绍

12 inch CD-SEM

（“ 赋 ”系列 eMF 3001 ）

分辨率<2nm ，放大倍率1-500k ，探针电流3-20pA 落点能量0.3-1.5kv WPH。

晶圆处理量40wafers/hour, lpoint/chip,20chips/wafer 利用先进的电子光学、图像处理和晶圆传输系统,实现高分辨率高通量高重复性的精准量测增强型自动校准,提供设备长期稳定性，拥有新的应用和测量技术,能够满足晶圆制造工艺开发中新工艺和新材料的测量挑战。

6/8 inch CD-SEM

（“ 赋”系列 eMF 2001）

分辨率<3nm 放大倍率1-300k 探针电流5-30pA 落点能量0.5-2kv 先进的电子光学系统和图像处理算法可兼容 6/8inch 晶圆高速的晶圆传输系统设计适用于第三代半导体芯片的量测。

6/8 inch CD-SEM

（ “赋 ”系列 eMF 2011）

产品特性 600以上高比表面积高比表面积与孔容：提供大量活性位点，适用于吸附、催化、药物负载等场景。有序介孔结构：孔径均匀可调，支持可控释放与高效传输。优异的化学/热稳定性：适应高温、强酸/碱环境，长期储存性能稳定。表面功能化能力：通过化学修饰实现靶向性、生物相容性或与其他材料的复合。生物相容性：经表面修饰后可应用于生物医学领域（如药物输送、生物成像）。

电子束缺陷检测设备EBI

惠然电子束缺陷检测设备利用扫描电子显微镜在前道工序中对半导体晶圆上的刻蚀图形直接进行电性缺陷和物理缺陷检测。其原理为通过聚焦电子束对圆片表面进行扫描，接受反射回来的二次电子和背散射电子,进而将其转换成对应的晶圆表面形貌的高分辨图像,通过比对晶圆上不同芯片(Die)同一位置的图像,或者通过图像和芯片设计图形的直接比对，可以找出刻蚀或设计上的缺陷,是芯片制造过程中良率提升的关键设备。

DR-SEM

电子東复检设备利用扫描电子显微镜在前道工序中对半导体晶圆上进行观察，通过发射高能量电子束与物体发生相互作用,产生多种信号,通过收集和分析这些信号,获取被检测物体表面的形貌、成分和结构等信息。主要是对初步检测或疑似有问题的产品进行再次检查，重点复查标记或可疑部位,用于高精度、高价值产品的精细缺陷检测。

联系方式

邮箱：contact@wellrunme.com

网址：www.wellrunme.com

往届回顾

第十五届中国国际纳米技术产业博览会举办1场主报告、15场分论坛，分享前沿报告605场，同比增长约26%，以及1场创新创业大赛、3场供需对接会，汇聚了150余位国家级人才，500余位国内外高校院所、企业机构的顶级专家。展区面积25000㎡，吸引全球350余家顶尖企业与机构参展，展示全球纳米技术领域最新技术产品和创新应用2400多件。本届大会累计到场参与总人次近2.75万人次，大会规模创下历史之最，影响力攀升至新高度。