四方光电TDLAS+NDIR双光学方案，守护麻醉安全
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在麻醉场景中，FiO2（吸入氧浓度）和EtCO2（呼气末二氧化碳）是呼吸监测的两项核心参数，FiO2确保供氧充足、EtCO2判断通气充分，共同为麻醉安全筑牢防线。
01ASA明确要求
美国麻醉医师协会（ASA）2025年10月最新修订的《基本麻醉监测标准》明确要求：所有麻醉期间，需对患者的氧合状态、通气功能、循环功能及体温进行频繁评估，这就需要对吸入氧气和呼气末二氧化碳进行浓度监测。
1. 使用麻醉机实施全身麻醉时，必须通过配备低氧浓度极限报警器的氧浓度分析仪，持续监测呼吸回路中的氧浓度；
2. 全身麻醉需持续评估通气充足性，气管导管置入后，必须用EtCO2监测来验证插管位置，并持续监测。
02为什么是FiO2和EtCO2？
FiO2：氧浓度的精准调控是患者安全的核心环节之一，FiO2不足可能导致低氧血症，过高则会引发吸收性肺不张、肺损伤。而患者的氧合需求因体位、手术类型、基础疾病等不同不断变化，因此，FiO2必须动态精准调控。
EtCO2：作为除血压、脉搏、血氧、体温、呼吸之外的"第六大生命体征"，EtCO2在麻醉场景应用最为普遍。
- 判断气管位置：通过EtCO2波形判断气管插管位置；
- 通气管理：全麻期间机械通气取代自主呼吸，PETCO2可间接反映PaCO2，指导调整呼吸参数(如潮气量和呼吸频率)；
- 通气不足预警：对于非插管全麻患者，患者保留自主呼吸，EtCO2监测能在SpO2下降前更早发现通气不足与呼吸抑制；
- 循环状态的辅助指标：在通气参数恒定时，EtCO2与心输出量、肺血流量高度相关，心输出量减少时EtCO2随之降低；
- 辅助诊断：辅助诊断多种疾病，如严重过敏反应、肺动脉灌注障碍等。
03麻醉回路里“内外夹击”
然而，麻醉回路中FiO2与 EtCO2的监测，既受外部环境干扰，也受传感器自身性能制约。
外部挑战
- 交叉气体干扰：回路中N2O等挥发性卤代麻醉剂，易干扰测量；
- 电磁环境复杂：手术室多种大功率设备密集运行，干扰传感器信号采集与处理的稳定性。
内部挑战
- 传统电化学氧气传感器寿命短，随着时间推移，灵敏度下降，读数失真；
- 传统二氧化碳传感器长期使用后探测器灵敏度下降，测量值漂移。
- 04TDLAS+NDIR双光学方案
四方光电依托TDLAS、NDIR双技术平台，自主研发激光氧气传感器与呼气末二氧化碳传感器，以光学组合方案实现麻醉场景下FiO2与EtCO2的精准、可靠监测。
麻醉安全，不仅在于气体的精准监测，更在于每一台麻醉系统的可靠集成。四方光电以TDLAS+NDIR双光学方案，从传感器性能到系统适配，为麻醉系统制造商提供端到端的开发支持——接口定义、安装限制、通信协议均可定制化适配；从设计导入到全面量产，全程满足法规可追溯性标准，让技术优势落地为临床安全。
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