Intel 14代酷睿或将击败苹果M2 新工艺功耗降40%

电子产品世界 20220615

  • 能效优化
  • Intel酷睿
  • 4nm EUV工艺

Intel前不久在VLSI大会上介绍了Intel的“4nm EUV”工艺,这两天媒体曝出了更多的料,HP高性能库的密度可达1.6晶体管/mm2,是目前Intel 7工艺的2倍,高于台积电的5nm工艺的1.3亿晶体管/mm2,接近台积电3nm的2.08亿晶体管/mm2。

本文引用地址:http://www.eepw.com.cn/article/202206/435168.htm


与Intel 7工艺相比,在同样的功耗下“4nm EUV”工艺频率提升21.5%,功耗降低了40%。改用EUV光刻机之后,“4nm EUV”工艺良率也高了,生产制造也更简单了,不用多次曝光了,工艺步骤减少了5%,光罩数减少了20%,也不需要多次对齐,这都提高了产能,降低了成本。

综合来看,“4nm EUV”工艺在能效上的进步会更明显,功耗降低了40%,有外媒指出这一点就足以让首发“4nm EUV”工艺的14代酷睿Meteor Lake处理器击败M2,这事意义重大。尽管绝对性能上苹果的ARM处理器还是比不过x86处理器,但是苹果重点是低功耗下的性能,能效上让x86处理器汗颜,导致Intel压力很大,现在“4nm EUV”工艺来了,Intel有望扳回一局。

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