江湾世纪（苏州）半导体科技有限公司 是一家总部位于中国苏州半导体设备制造商，致力于发展推动微电子未来演进的工艺技术。我们专注于高性能半导体设备的研发与生产，旨在满足先进技术节点不断升级的需求。

我们的产品组合包括：310mm×310mm Panel RDL PVD设备，VHF/XeF₂释放刻蚀设备，4合1 QVD、IBD、等离子体蚀刻设备、等离子体清洗设备及介电膜沉积设备。这些产品面向先进封装，MEMS，脑机接口，功率，射频及光电等市场的广泛应用。

在江湾世纪，创新是一切工作的核心。我们的研发致力于帮助客户提升产量、改善均匀性并增强工艺稳定性，同时降低制造成本与环境影响。我们与半导体晶圆厂紧密协作，深入理解其生产挑战，并将其转化为可靠且可制造的设备解决方案。

我们的领导团队由在半导体设备设计、工艺工程及全球运营领域拥有二十余年经验的行业资深人士组成。多位领导者持有顶尖大学的高等学位，并曾在美国、欧洲及亚洲的领先设备公司担任关键职务。他们在设备创新与晶圆厂工艺集成方面的深厚背景，赋予江湾世纪独特的竞争优势——能够开发出既技术先进，又切实针对实际生产环境进行优化的设备。

我们将尖端工程技术与深厚的制造经验相融合，持续开拓下一代工艺解决方案，助力客户突破关键瓶颈，实现可扩展的高性能生产。

子公司

江湾京方（苏州）半导体科技有限公司

主要产品

PECVD、ETCH(ICP,CCP,DRIE)、E-Beam Evaporator、PVD、XeF2 Release Etch、VHF Release Etch、4合1 QVD、ICPCVD、IBD

应用领域

先进封装，MEMS，脑机接口，功率，射频及光电等市场的广泛应用