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SUPERALD 原速科技深圳市原速光电科技有限公司（Superald,LLC）是一家专注于原子层沉积（AtomicLayerDeposition，ALD）系统设计、工艺研发及技术咨询的高科技企业，为柔性显示、光学镀膜、太阳能电池及锂电池等领域的薄膜研发和生产提供优质的技术服务和一体化解决方案 公司拥有独立的ALD工艺开发部门，在薄膜材料研发方面经验丰富。实验室内拥有多台ALD设备用于薄膜开发，可为不同行业不同样品提供ALD代加工服务，可为客户提供最专业的材料开发技术支持。 原速将提供从ALD设备到工艺的全方位服务。
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Annealsys法国 Annealsys 是一家领先的RTP和DLI -CVD / DLI -ALD系统制造商，用于硅和化合物半导体、纳米技术、MEMS、太阳能电池、玻璃等领域的研究生产应用的公司。 凭借15年的经验，我们的博士团队已经开发和优化了多个RTP, ALD和CVD工艺。 通过我们的应用和研发实验室，Annealsys提供工艺开发和工艺服务，我们可以根据客户的要求执行RTP, CVD和ALD工艺，或与客户合作开发新工艺，我们的工艺工程师团队可以开发或协助我们的客户在退火和沉积工艺
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CN-1韩国 CN1 通过积极的研发投资，已成为原子层沉积(ALD)设备的领先的供应商。经过十多年的集约开发，我们的设备设计和工艺技术得到了充分的验证和完善。 因此，在半导体、显示、生物技术和先进能源行业工作的高科技组织现在更青睐CN1 ALD系统，以满足他们最苛刻的纳米技术应用和生产需求。 CN1的ALD设备目前在美国、日本、新加坡、台湾、俄罗斯、中国、韩国等数百所大学、研究机构和企业使用。我们的成功和我们作为一个全球性公司的持续增长证明CN1确实可以成为顶尖的供应商。
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SRII 四方思锐智能思锐智能主要聚焦关键半导体前道工艺设备的研发、生产和销售，提供具有自主可控的核心关键技术的系统装备产品和技术服务方案。 公司产品包括原子层沉积（ALD）设备及离子注入（IMP）设备，广泛应用于集成电路、第三代半导体、新能源、光学、零部件镀膜等诸多高精尖领域。 2018年，公司完成对ALD技术发源地——芬兰倍耐克公司100%股权的收购工作。 思锐智能整合倍耐克海外前沿技术研发资源，开展ALD技术国内外联合研发与国内产业化落地工作，建立了完善的ALD产品体系，覆盖全球众多头部客户并在众多细分领域取得领先的市场竞争地位。 目前思锐智能及其子公司拥有300余项相关专利，在ALD技术及应用方面具备雄厚的技术积累。公司在推进ALD业务转型升级后，布局离子注入设备业务并取得突破。
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鹏城半导体公司核心业务是半导体材料、工艺和装备的研发设计、生产制造。 公司人才团队知识结构完整，有以哈工大教授和博士为核心的高水平材料研究和工艺研究团队；还有来自工业界的高级装备设计师团队和工艺工程师团队，他们具有20多年成套装备设计和生产制造经验。 公司已投放市场的部分半导体设备物理气相沉积（PVD）系列磁控溅射、电子束、热蒸发镀膜机，激光沉积设备PLD化学气相沉积（CVD）系列MOCVD、PECVD、LPCVD、微波等离子体CVD、热丝CVD、原子层沉积设备ALD
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FHR Anlagenbau我们擅长将独特的指标要求用机械产品和工艺的语言表达出来。 我们的设备以真空条件下的功能膜层沉积工艺为导向。我们致力于实现应用于工业领域的新型研发技术成果。 我们把工艺技术、机械设计、软件开发和自动化技术相结合。我们的特长是设计定制化镀膜设备以期产出具有竞争力的产品 (拥有成本)。 工艺研发专业知识我们拥有多名具备广泛技术背景的研发工艺师。 技术范围包括：反应和非反应磁控溅射热蒸发用于金属高速率沉积CVD 和PECVD氧化物和氮化物、用于沉积超薄功能膜层的原子层沉积(ALD), 其可在复杂三维表面实现均匀的膜层厚度用于表面处理和超高效率材料移除 (高速率刻蚀)的等离子体增强技术最终实现了稳定且适配生产的工艺。
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W-OLF 五方光电公司核心技术包括：精密光学镀膜技术、光刻技术能力、TGV加工能力、纳米压印能力、冷加工能力、精密涂布技术、激光切割工艺、精密丝印工艺、精密贴合工艺等。 主要产品新产品光刻产品、多通道光谱传感芯片、TGV产品、ALD产品、纳米压印产品、玻璃钢化产品、盖板玻璃（增透膜+AF膜）、晶圆加工产品介绍、棱镜产品、二相色镜产品、硅基反射镜产品、高折射率晶圆产品滤光片组件定焦滤光片组件
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Leadmicro 微导科技公司形成了以原子层沉积（ALD）技术为核心，CVD等多种真空薄膜技术梯次发展的产品体系，专注于先进微米级、纳米级薄膜设备的研发、生产与应用。 在此基础上，公司继续深化开发对技术水平和工艺要求更高的半导体薄膜沉积设备，是国内首家成功将量产型High-k 原子层沉积设备应用于28nm 节点集成电路制造前道生产线的国产设备公司，设备总体表现和工艺关键性能参数达到国际同类水平
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Hotlong 辉龙电热电器江阴市辉龙电热电器有限公司 及其全控子公司无锡新辉龙科技有限公司专注于半导体加热解决方案，为半导体设备端工艺气体管路及OEM客户提供定制设计、加热器产品。 成立技术研发中心2019：新基地建成并投产2022：建立新的生产基地资质荣誉研发与测试研发能力热工计算及分析；应力计算及分析；疲劳分析；PCB板开发；温控仪开发；PLC及触摸屏编程；仪表及电气集成；新工艺开发 半导体干法半导体干法：PVD, CVD, PECVD, ALD（干法的应用设备）半导体湿法石英在线加热器是一种使用石英材料作为加热元件的加热装置。 半导体湿法去离子水（DIW）加热系统，所有与液体接触的表面均采用超纯PVDF/PFA材料 通过PLC温度*控制技术、陶瓷加热高温烧结，可根据客户需求定制尺寸、功率和样式 材料管路加热在改进燃气管道加热器的设计和制造工艺方面付出了巨大努力
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RUILE 瑞乐半导体研发能力瑞乐半导体的研发团队由多名在半导体设备和测量系统领域有多年工作经验的专家及工程师组成，技术骨干精通半导体设备的工艺，对半导体制程有深入的理解，团队致力于研发更高精度、更稳定、更易用的晶圆测温和校准测量系统 应用场景测温应用场景主要包括：干/湿法刻蚀、湿法清洗、薄膜沉积（PVD/CVD/ALD）、静电卡盘、加热炉、加热台、涂胶显影(TRACK)、探针台测温、天车/晶圆传输检测、RTP快速退火、晶圆临时键合等场景 晶圆型厚度量测片，8至12寸晶圆现对腔体内晶圆刻蚀或薄膜沉积的厚度参数进行测量；5、ALS 晶圆型水平校准片，8至12寸晶圆快速测量晶圆载盒、FOUP、晶圆自动化搬运机械手、晶圆校准设备、装载锁、晶圆顶针和工艺腔底座的倾斜度参数
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