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EUV光刻技术

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严选EUV光刻技术厂家,提供从EUV光刻技术设计、研发、生产制造深耕产品,打造值得信赖的传感器品牌,解决选品、技术支持问题,实现采购放心、售后无忧。
  • Energetiq / Hamamatsu

    (LDLS),激光驱动的可调光源(顶级域名),色度光谱引擎(CSE™)并且无电极z-Pinch EUV技术紧凑的外形提供无与伦比的可靠性和稳定性质量ISO9001:2015和 ISO14001 :2015认证在整个设计和生产过程中内置质量检查全面的技术驱动的业务管理系统通过持续改进实现卓越的文化突破极限的先进光子解决方案用于纳米级照明的宽带光源从R&D到批量生产Energetiq利用突破性的专利技术制造先进的下一代光源 ,包括我们的超亮激光驱动光源(LDLS®)和无电极Z-Pinch EUV光源。 产品优势高亮度激光驱动光源技术提供170纳米至2500纳米的高辐射高重复率紧凑型无电极Z-Pinch EUV光源超过10,000小时的运行时间广泛的波长范围/升级途径复杂系统的“即插即用”选项主要应用半导体制造晶片计量学 ,缺陷检查,椭偏仪,EUV光刻术,光致抗蚀剂显影传感器校准和测试光学测试,像素阵列,光谱灵敏度,结构错误,遥感优化科学研究与发展光谱学,材料分析,疾病筛查,手术可视化,环境分析 中国业务滨松光子学商贸(
  • Difrotec

    我们在光学系统和光学图像处理的数学建模,开发用于DUV和EUV光刻的高精度光学系统的组装,调整和测试的计算机模型的开发方面拥有30多年的经验,在点衍射波阵面研究方面已有8年以上的经验测试各种参数的光学元件 D7作为通用仪器,具有多种计量工具的优点:绘制表面图形,揭示光学器件制造和组装技术的特征和缺陷以及测试光学系统的图像质量。所有这些功能均提供了世界上最高的绝对精度-埃。
  • KMLabs

    美国 KMLabs 超快X射线光源KMLabs在将最先进的超快激光技术推向市场方面有着悠久的历史。 到2009年,KMLabs率先推出了第一个商业高谐波源,通过强飞秒激光器的频率上变频产生相干的EUV光束。这演变成我们的 XUUS断续器产品线,在光谱学、成像和材料计量方面拥有大量已得到验证的应用。 这项投资的动机是需要与下一代光刻相关的用于检测和计量的高平均功率EUV / SXR相干源,以及需要更好的纳米计量分析工具。
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