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星泰克微电子公司多年来致力于光刻胶的研发、生产和销售，坚持不懈、砥砺前行，成绩斐然。公司建立了一流的技术研发团队，拥有先进、完善的产品研发设备和手段。 公司的主要产品为蓝宝石衬底（PSS）专用光刻胶、剥离（lift-off）光刻胶、柔性光刻胶、纳米压印光刻胶、SU-8厚胶等各类高端光刻胶及配套试剂，广泛应用于LED、LCD、IC、MEMS、封装等领域。 投放国内市场的光刻胶，部分取代了国外进口产品。公司自主研发的黑色光刻胶、248纳米光刻胶已经通过国内权威机构测试，技术指标达到或超过国内领先水平，具备了产业化生产的技术条件。
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乾宇微纳技术公司创始团队均来自世界500强企业，在创新型光刻技术领域拥有近10年的研发和应用量产经验，具备光刻材料的研发与制造能力、高精度光刻工艺到产品的落地能力。 公司以专用于无源器件的光刻技术为核心，通过配套的光刻工艺和系统集成能力为客户提供元器件的微纳制造解决方案。 乾宇新型光刻技术在精度、可靠性、灵活性及成本等方面能够很好地解决亚微米电路结构量产化的应用兼容性问题，填补无源器件和无源集成系统在0.1-25um级的微纳制造技术空白。 同时，公司具备从材料到零组件的全流程研发、制造能力，所研发生产的传感器及模组、陶瓷基板、微波射频器件等，可广泛应用于智能手机、平板电脑、触控笔记本、人机交互设备、汽车和工控设备、射频前端模块等领域。 未来，乾宇还将在交互/传感、先进封装、射频模块等领域不断开拓光刻技术的跨行业新应用，秉持探索、共享、共赢的企业理念不断前行。
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HWN 华维纳苏州华维纳纳米科技有限公司 是在“苏州工业园区创业领军人才项目”的支持下，于2011年注册成立的高科技创新型公司，主要从事新型纳米光刻技术和无掩模纳米光刻机的研发和产业化工作，曾先后获得国家科技部（国家重大大科学仪器设备开发专项 华维纳于2012年6月完成首轮风险融资，随后在不到三年的时间内，成功研发出拥有完全自主知识产权的三大系列纳米光刻系统，获得了授权及在申请的核心专利8项。2015年，公司获得“高新技术企业”认证。
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上海工研院上海工研院于2017年建成全国首条8英寸研发中试线，洁净室面积近5000平方米，硬件投入超10亿元，拥有主流设备150多台，可提供智能传感器、硅基光子学、生物芯片等“超越摩尔”核心工艺技术，为产品设计公司提供高效的工艺研发和中试服务 上海工研院硅光工艺平台具备90nm高精度光刻、晶体外延、介质薄膜生长、干法及湿法刻蚀、掺杂、金属互连和在线工艺检测等成套关键工艺能力，并针对不同应用场景，实现了220nm薄硅SOI、1.5~3μm厚硅SOI
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北京汇德信1999年成立以来，北京汇德信科技有限公司 始终秉承“诚信、专业、创新”的宗旨，将国际上先进的纳米科学技术设备引进到国内。 我们与德国亚琛工业大学、德国明斯特大学、德国斯图加特大学、德国卡尔斯鲁尔纳米中心及德国Max-Planck研究所等知名科研院所有着紧密的合作，并系统地代理了Eulitha（紫外光刻系统）、Exaddon AG（微纳金属3D打印系统）、Allresist(光刻胶)、Novocontrol（宽频介电阻抗谱仪）、 Keller(红外测温仪)等多家国际知名高新技术企业产品。 基于长期的合作信任关系及业务增长态势，2017年我们与德国Raith公司成立了合资企业，将电子束光刻机业务划分出来，与厂商更紧密合作，共同努力为国内用户提供优质产品和服务。 2019年汇德信在常州成立分公司，获得资质专门销售光刻胶产品。汇德信将一如既往地为国内用户寻找国际领先的创新型产品，服务用户，共创未来！
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RDMICRO 研材微纳公司与国内多家研究单位和公司机构有长期的委托加工合作关系，设备齐全，服务及时，适合各类加工需求。主要从事半导体和MEMS领域微细加工设备的销售。 公司目前主要销售的产品是晶圆键合设备、晶圆喷胶设备、基础工艺设备和检测设备等半导体先进工艺设备。 公司目前经营的产品有各类委托加工、设备、硅片、特殊衬底、光刻胶、高纯度试剂、超净耗材、货源优质，响应速度快，国内外货源充实。 主要产品衬底光刻胶特殊光敏材料光刻配套试剂无尘耗材蒸发料&靶材科学仪器工具
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SVG 苏大维格经多年发展，苏大维格成为微纳光电材料、新型显示和纳米印刷领域自主创新的典型企业，涉及微纳光学印材、纳米印刷、3D成像材料、平板显示（大尺寸电容触控屏，超薄导光板）、高端智能微纳装备（纳米压印、微纳直写光刻 1、器件应用： 平板电脑，智能手机等2、新型光学印材和薄膜：印刷包装、品牌印材（蓝色经典、云烟）等；3、智能微纳光刻直写设备：国内外著名企业、高等院所，国外日本、以色列等国。 产品与服务微纳制造数字化直写光刻，套准纳米压印光刻 ，扫描投影光刻，微纳3D打印，光场3D签注系统纳米印刷与立体成像3D光学印材，立体成像产品，光场成像材料，炫彩光变色烫印材料，证卡防伪解决方案，文博产品微纳光学与器件全息光栅
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RPC PhotonicsRPC光子目前总占地12000平方英寸，包括室内的光学及机械设计工厂，光刻设备，光学计量实验室，光学系统装配部门，精密机械加工厂房，以及业务办公区域。 RPC光子的主要市场包括：固定照明、显示系统、防御系统、大功率激光、和紫外线光刻。
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TDSEMI 芯达科技沈阳芯达科技有限公司 致力于国产集成电路涂胶影设备 (clean track) 技术研发，技术团队深耕+载。限公司，已通过国家高新企业认证。2019年投资成立全资了公司沈阳芯达半导体设备有限公司。 芯达科技自主研发的集成电路专用设备包括: 全自动涂胶显影设备、全自动光刻胶超声波喷涂设备、单片湿法清洗设备、单片湿法去胶设备、单片湿法刻蚀设备、晶圆表面极性(HMDS)设备、晶圆冷却与烘烤设备、晶圆自动传送设备 、光刻胶配比排泡设备等，产品适用于2-12英寸各类半导体材料基底处理。 芯达科技已通过ISO9001质量体系认证，以标准规克的研发生产模式为客户提供合格满意的设备。同时我们愿意倾听每位客户的需求，不断改进推出适合于客户实际需求相一致的产品，是高设备性价比。
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Nata 南大光电材料二十多年来，公司一直紧跟国家发展战略，围绕前驱体材料（包含MO源）、电子特气和光刻胶三项核心电子材料进行奋斗，并形成三大核心业务布局。 2020年4月· 南大光电成为全国首个电子材料民营企业购置193nm浸没式光刻机，光刻胶产业迈向新阶段。· 光刻胶第二条生产线建成。2019年12月 光刻胶第一条生产线建成。 2018年1月 与宁波经济技术开发区签订投资协议，注册成立“宁波南大光电材料有限公司”，负 责“02-专项”ArF光刻胶开发和产业化项目落地实施。 ⼤光电研发中⼼致⼒于国家急需的关键电⼦材料的研发和产业化,研发⽅向 包括先进光刻胶、特种⽓体、泛半导体材料、原⼦层沉积前驱体及OLED有机新材料等。 实验室中⼼拥有13500平⽶现代化实验室以及众多先进的研发、分析、测试设备,包括 193nm浸没式光刻机1台、⾼分辨核磁5台、ICP-MS4台、ICP-OES 2台、各种 质谱3台以及进⼝升华仪.蒸镀机
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大陆客户与蔡司：ASML最新财报的“明”与“暗”2022-04-24
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成都：“十四五”将布局量子、6G、光刻等六大未来赛道2022-04-18
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2022上海国际光刻设备与光掩膜应用技术展览会2022-03-29
