SK海力士完成1b DRAM制程技术研发
5月30日,SK海力士宣布,已完成了1b制程技术(第五代10nm等级)研发,并将其技术生产的DDR5伺服器DRAM进行英特尔数据中心记忆体认证程式(The Intel Data Center Certified memory program),这是英特尔代号Sapphire Rapids的第四代Xeon可扩展数据中心处理器所采用的记忆体产品的相容性正式认证流程。
SK 海力士表示,这次提供的DDR5 DRAM产品运行速度为6.4Gbps,与初期的测试品项相比,数据处理速度提高了33%。该产品采用了HKMG(High-K Metal Gate)制程技术,相较第四代10nm等级的1α制程技术的产品,功耗降低了20%。
SK 海力士希望2023年开始量产最先进的1b制程技术产品,以改善2023年下半年的业绩。此外,SK海力士还打算将1b制程技术延伸到LPDDR5T、HBM3E等产品上。
(JSSIA整理)
查看全文
作者最近更新
-
英特尔将为车用芯片设计厂商Valens代工江苏半导体协会2024-01-11
-
《国家汽车芯片标准体系建设指南》发布江苏半导体协会2024-01-11
-
芯原股份拟募资18.08亿元投建Chiplet及新一代IP研发项目江苏半导体协会2024-01-10
评论0条评论