荷兰公布半导体设备管制措施！限制DUV光刻机出口到中国

荷兰政府6月30日正式公布最新半导体设备管制措施，要求先进芯片制造设备业者，出口DUV（深紫外光）光刻机都必须申请许可，虽然相关管制措施没有提到中国或ASML（艾司摩尔），但是相当于限制ASML 的DUV 光刻机出口到中国，并预计管制措施将在9 月1 日生效。

荷兰外贸部长施莱纳马赫（Liesje Schreinemacher）表示，荷兰政府采取半导体设备管制措施，主要是出于国家安全考虑，受影响的企业现在知道自己的立场是件好事，因为这样就能及时适应新的规定。

荷兰政府祭出最新半导体设备管制措施，虽然具体没有提到中国或ASML，但是因为ASML 是半导体供应链关键厂商，几乎垄断先进芯片制造设备的市场，因此管制措施要求ASML 出口DUV 光刻机到中国都必须事先申请许可，等于限制ASML 三种型号的光刻机出售给中国。

管制措施锁定的是ASML 三款DUV 光刻机，型号为TWINSCAN NXT：2000i、NXT：2050i 和NXT：2100i，属于ASML 第二先进的设备，而最先进的极紫外光光刻机（EUV）已在今年3 月限制对中国出口。

管制措施的消息冲击ASML 股价一度跌逾2%，但是ASML 之前就有发表声明表示，未来ASML 要出口最先进的DUV 设备时都必须向政府申请许可，而相关措施对2023 年度，甚至更长期的财务展望，并不会有重大的影响。

美国从2022 年10 月开始就以国家安全为由，限制企业将芯片制造设备出口到中国，以防范技术被用来强化中国军事力量，并推动日本与荷兰跟进，其中日本针对23 项设备的限制令将在7 月下旬生效，而荷兰则在今日公布管制措施，等于限制ASML 出口DUV 光刻机到中国。

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