三星电子西安晶圆厂启动第八代236层V-NAND量产
三星电子西安晶圆厂启动第八代236层V-NAND量产
根据韩国媒体近日披露,三星电子在中国西安的NAND闪存制造基地已完成技术升级,正式投入生产第八代236层堆叠的V-NAND(V8 NAND)产品。
作为三星在韩国以外的重要半导体制造中心,西安晶圆厂自2024年起持续推进技术革新,将原有的V6(128层)NAND闪存产线进行升级。此举意在提升存储器的性能表现与制造效率,进一步巩固其在全球存储市场中的产能优势,以应对人工智能等新兴技术对高容量、高速度存储解决方案的持续增长需求。
随着V8 NAND的量产落地,三星已在规划下一阶段的产品演进路径,目标为286层堆叠的V9 NAND。相关产线将部署在西安X2工厂,并预计于2026年内实现技术转换与批量生产。
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