第十届国际先进光刻技术研讨会(IWAPS 2026)征稿启事
第十届国际先进光刻技术研讨会(IWAPS 2026)征稿启事
第十届国际先进光刻技术研讨会(IWAPS 2026)即将于2026年9月10日至11日在中国深圳国际会展中心举行。作为连接全球光刻产业与学术界的年度盛事,本次会议将继续汇聚来自全球的企业代表、科研机构、高校学者及行业协会的专家,共同探讨光刻技术的前沿发展。
依托中国在科技创新领域的强劲发展势头,IWAPS已建立起覆盖光刻设备、制造工艺、量测技术、掩模材料、计算光刻、设计与制造协同优化以及新型光刻技术的全方位交流平台。会议不仅促进了技术成果的共享,也为企业与研究机构提供了深入合作的契机。
本届会议一如既往欢迎来自光刻产业链上下游的领军企业分享未来发展战略,期待科研机构集中展示核心技术创新成果,也鼓励青年学者积极参与,为光刻技术的发展注入新活力。同时,投资机构也将在此平台获得关于行业趋势的深度洞察。
作为国际化的开放学术平台,IWAPS致力于推动全球光刻技术的协同进步。会议旨在帮助参与者了解最新研究动态、识别技术瓶颈、激发创新思维,并共同探索光刻技术的未来发展路径。
会议时间与地点
会议日期:2026年9月10日 - 11日
会议地点:深圳国际会展中心
报到时间:2026年9月9日
欢迎来自学术界与产业界的专家积极参与,并踊跃提交论文。
关于SPIE
SPIE(国际光学工程学会)成立于1955年,总部位于美国华盛顿州贝灵厄姆,是一个致力于推动光学与光电子技术发展的国际专业组织。SPIE每年在全球范围内举办多个学术会议与展览,为科学家、工程师和企业提供了展示最新研究成果的平台。
SPIE数字图书馆是全球最大的光学与光电子文献数据库之一,收录了大量期刊、会议论文集和专著,内容涵盖光学、光子学、激光技术及生物医学光学等领域。这一资源不仅推动了学术交流,也为技术转化和人才培养提供了坚实基础。
本届IWAPS会议的投稿将被收录于SPIE数字图书馆,并提交至EI数据库。
征稿方向
IWAPS聚焦微电子制造领域中的关键光刻技术,涵盖从基础研究到实际应用的多个方面。征稿范围包括但不限于:
- 光刻工艺
- 计算光刻与DTCO
- 光刻材料
- 掩模技术
- 量测与检测方法
- 新型光刻技术
- 光刻设备及系统
- 其他图案化(Patterning)技术
投稿要求
摘要要求
摘要需准确描述研究背景、研究目标、研究方法、主要成果以及其学术或产业价值。摘要必须使用英文撰写,字数限制为500单词以内。
摘要内容应包括:论文标题、关键词、作者信息(姓名、所属单位、邮箱及通讯地址),并对研究内容进行适当展开。为提高接收概率,建议在摘要中加入图表。
摘要提交截止日期:2026年6月30日
摘要投稿网址:https://spie.org/submissions/submit/overview.aspx?EventId=4101554
摘要录用通知日期:2026年7月21日
全文要求
摘要被接收后,作者需按照SPIE会议论文模板提交完整的论文全文。最终论文将被提交至SPIE数字图书馆及EI数据库。
请务必在规定时间内完成投稿。逾期投稿将不被收录。
论文投稿网址:https://spie.org/submissions/submit/overview.aspx?EventId=4101554
论文投稿截止日期:2026年8月31日
投稿指南
为确保投稿流程顺利,投稿者请按照以下步骤操作:
- Step 1:访问SPIE会议投稿系统链接
- Step 2:填写必要的作者信息并上传论文摘要
- Step 3:在账户页面中确认上传内容并完成提交
- Step 4:登录SPIE.org账户后,通过个人图标进入“账户详情”页面
- Step 5:点击研讨会链接进入投稿与评审系统
- Step 6:通过投稿链接管理当前提交的内容
- Step 7:请于6月30日前提交摘要,7月21日至8月31日提交全文
往届回顾
IWAPS自2017年起每年举办,已在全国多个城市成功举办。以下是往届会议的部分精彩回顾:
IWAPS 2017 北京
IWAPS 2018 厦门
IWAPS 2019 南京
IWAPS 2020 成都
IWAPS 2021 佛山
IWAPS 2022 北京(线上)
IWAPS 2023 丽水
IWAPS 2024 嘉兴
IWAPS 2025 深圳
往届论文集
可通过以下链接查阅往届会议论文集:
- IWAPS 2020:IEEE Xplore
- IWAPS 2021:IEEE Xplore
- IWAPS 2022:IEEE Xplore
- IWAPS 2023:IEEE Xplore
- IWAPS 2024:SPIE DL
- IWAPS 2025:SPIE DL
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