黄磊投资半导体企业，创始人荣膺中科院院士
黄磊投资半导体企业，创始人荣膺中科院院士
在娱乐圈涉足投资并不罕见，但将目光投向半导体这类硬科技领域，便显得尤为特别。黄磊，这位大众熟知的演员，近期被曝投资了一家专注于碳化硅衬底材料的高科技企业——北京晶格领域半导体有限公司。
值得关注的是，该企业背后的创始人陈小龙，于2025年11月当选中国科学院院士，进一步提升了这家企业的科技含量与行业地位。
根据企查查的公开信息，黄磊在2021年6月完成对该企业的注资。此次投资属于公司第二次增资，意味着他可能参与的是企业发展的第二轮融资。
此前的首轮投资由“海创时代”完成，该机构隶属于北京海创产业技术研究院，整体背景偏向科研与产业结合的事业单位。
黄磊的入股使得其持股比例达到11%，甚至超过了首轮机构投资者的持股比例。考虑到这一阶段企业可能处于较高估值阶段，黄磊的重仓投资充分体现了其对该项目的高度认可。
在公司成立仅一年之际，便获得明星投资人的重注，可见黄磊对该企业的长期发展充满信心。
陈小龙，1964年出生，是中国科学院物理研究所研究员，同时也是知名碳化硅企业“天科合达”的联合创始人。早在2023年8月，他就入选了中科院院士增选有效候选人名单，并最终在2025年当选为中国科学院院士。
走进晶格领域的办公区域，可以看到展示柜中整齐排列的碳化硅晶片。这些晶片作为第三代半导体的核心材料之一，正逐渐在多个高科技领域中发挥关键作用。
碳化硅衬底是通过将碳化硅晶体按照特定结晶方向切割、研磨、抛光后形成的单晶圆薄片。尽管外观上看似乎普通，但其性能远超传统硅基材料。它具备更高的电流承载能力、更快的开关频率以及更强的耐高温特性，适用于新能源汽车、轨道交通、高压输电、光伏发电和5G通信等领域。
然而，碳化硅材料的制备过程极为复杂。其生长需在2000℃以上的高温低压环境中进行，且接近真空状态。在此过程中，原子行为的控制精度极高，而可实现的有效监控手段却相对有限。
尽管碳化硅性能卓越，但受限于产能瓶颈和制造成本，其在大规模商业化应用中仍面临挑战。
晶格领域作为国内首家采用液相法技术生长碳化硅晶体的企业，正试图打破这一困局。其工艺流程将固态原料在高温条件下熔解为液体，并在其中重新结晶，最终形成碳化硅单晶体。与传统的物理气相传输法（PVT）相比，液相法不仅可将晶片成本降低超过30%，还能有效解决P型掺杂难题，实现低阻p型碳化硅晶体的稳定生产，为制造IGBT、双极性器件等大功率器件提供材料基础。
黄磊此次对晶格领域的投资，表面上看是一次明星跨界科技产业的尝试，实则背后蕴含着“顶尖科学家+颠覆性技术+刚需市场”的清晰逻辑。在碳化硅这一充满潜力的蓝海市场中，晶格领域手握核心液相法技术，有望在未来释放更大的商业价值与技术影响力。
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