东方晶源HV-SEM高能电子束量测设备成功部署先进制程产线

电子创新网 20260611

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东方晶源HV-SEM高能电子束量测设备成功部署先进制程产线

在首台自主研发的HV-SEM高能电子束量测设备成功交付国内头部晶圆厂后,东方晶源微电子科技(北京)股份有限公司(以下简称“东方晶源”)近日再次实现突破,其第二台HV-SEM设备顺利进驻国内先进制程产线。此次部署标志着该企业高能电子束量测装备的产业化进程显著提速,进一步推动国内高端量测设备技术的自主化进程。

作为专为先进制程设计的高端电子束量测设备,HV-SEM集多项核心技术于一体,研发难度高、技术门槛严苛。该设备不仅具备CD-SEM级别的高精度量测能力,还融合了类似DR-SEM的BSE/SE多通道成像功能,并集成EBI大数据处理系统,支持对海量数据进行多维度智能分析。

在设备研发过程中,东方晶源攻克了高能电子束控制与校准体系,开发出适用于先进制程的SEM overlay量测专用算法与应用方案。针对先进制程中线宽持续微缩的趋势,公司进一步优化了工件台的纳米级运动控制模块,显著提升了设备的精度、稳定性与兼容性,满足先进制程对工艺控制的严苛要求。

在3D-NAND、DRAM、先进逻辑芯片及先进封装等领域,HV-SEM凭借高能电子束的深层成像能力,在in-die SEM overlay、超高深宽比(HAR)三维结构量测以及深层缺陷检测等关键应用中发挥着不可替代的作用,是先进集成电路研发与量产阶段不可或缺的核心设备,具有重要的战略意义。

目前,东方晶源已构建起覆盖EBI、DR-SEM、CD-SEM及HV-SEM的完整电子束量测产品矩阵,能够满足缺陷检测、工艺复检、关键尺寸量测及三维结构overlay等多场景下的量测需求,形成系统化、一体化的国产电子束量测解决方案。

在HV-SEM的研发与升级过程中,东方晶源始终坚持自主创新路线。依托45keV高能电子光学平台,公司同步推进现有型号的产线部署与新型号的技术攻关,持续优化高能电子光学系统、高性能BSE探测器、多通道成像技术、工件台纳米级运动控制、大算力DPU架构、专用自动化校准体系、智能量测与检测算法以及设计版图GDS整合等核心技术。这些技术的突破打破了国外厂商在高能电子束量测设备领域的长期垄断,成功打造出性能可比肩国际先进水平的国产设备。

未来,东方晶源计划进一步推动HV-SEM硬件与自主EDA软件的深度融合,完善从设计到制造的HPO全流程工艺优化体系。

通过技术创新破解先进制程中的关键瓶颈,东方晶源正持续深耕半导体良率管理领域,助力我国集成电路产业实现自主可控与高质量发展。

来源:东方晶源

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