ASML中国：现有技术搞定1nm芯片绰绰有余

西贝网 20220517

  • 1nm芯片
  • 光刻系统
  • gate-all-around FETs
5月16日是联合国教科文组织定义的“国际光日”，ASML中国官方在一篇微信推送中写道“创新，让摩尔定律重焕光彩”。ASML中国强调，过去15年，摩尔定律依然生效且状况良好，未来十年甚至更长时间内将继续保持势头。

ASML自信满满地指出“在元件方面，目前的技术创新足够将芯片的制程推进至至少1纳米节点，包括gate-all-around FETs（环绕栅极晶体管），nanosheet FETs，forksheet FETs以及complementary FETs”。

此外，光刻系统分辨率的改进（预计每6年左右缩小2倍）和边缘放置误差（EPE）对精度的衡量也将进一步推动芯片尺寸缩小的实现。

据了解，纳米之后将进入埃米时代，台积电、Intel等都制定了雄心勃勃的埃米工艺早期路线图。也许，技术创新之所以弥足珍贵，内核要义就在于不会被困难打倒。

查看全文

点赞

西贝网

作者最近更新

  • 詹姆斯·韦伯望远镜将目光投向115亿年前 捕捉到令人惊叹的"彩虹结"
    西贝网
    2022-10-21
  • 物理学家对质子结构异常现象感到疑惑
    西贝网
    2022-10-21
  • 科学家发现世界上第一张已知星图：被藏在一座修道院里
    西贝网
    2022-10-24

期刊订阅

相关推荐

  • 苹果和台积电开发1nm芯片，用于AR和苹果汽车

    2022-05-06

  • 台积电再赚千亿！苹果订单加量，正联合研发1nm芯片

    2022-05-10

  • ASML：现有技术能实现1nm工艺

    2022-05-18

  • ASML中国：让摩尔定律重焕光彩，1nm不是难事

    2022-05-19

评论0条评论

×
私信给西贝网

点击打开传感搜小程序 - 速览海量产品,精准对接供需

  • 收藏

  • 评论

  • 点赞

  • 分享

收藏文章×

已选择0个收藏夹

新建收藏夹
完成
创建收藏夹 ×
取消 保存

1.点击右上角

2.分享到“朋友圈”或“发送给好友”

×

微信扫一扫，分享到朋友圈

推荐使用浏览器内置分享功能

×

关注微信订阅号

关注微信订阅号，了解更多传感器动态

  • #{faceHtml}

    #{user_name}#{created_at}

    #{content}

    展开

    #{like_count} #{dislike_count} 查看评论 回复

    共#{comment_count}条评论

    加载更多

  • #{ahtml}#{created_at}

    #{content}

    展开

    #{like_count} #{dislike_count} #{reback} 回复

  • #{ahtml}#{created_at}

    #{content}

    展开

    #{like_count} #{dislike_count} 回复

    • 关闭
      广告