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乾宇微纳技术公司创始团队均来自世界500强企业，在创新型光刻技术领域拥有近10年的研发和应用量产经验，具备光刻材料的研发与制造能力、高精度光刻工艺到产品的落地能力。 公司以专用于无源器件的光刻技术为核心，通过配套的光刻工艺和系统集成能力为客户提供元器件的微纳制造解决方案。 乾宇新型光刻技术在精度、可靠性、灵活性及成本等方面能够很好地解决亚微米电路结构量产化的应用兼容性问题，填补无源器件和无源集成系统在0.1-25um级的微纳制造技术空白。 未来，乾宇还将在交互/传感、先进封装、射频模块等领域不断开拓光刻技术的跨行业新应用，秉持探索、共享、共赢的企业理念不断前行。
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DJEL 东方晶源主要产品OPC计算光刻产品OPCOPC是连接芯片设计和制造的关键技术，应用于光刻掩模版优化及光刻机光源优化，是决定产品良率的重要环节之一。 东方晶源OPC产品采用先进的全芯片反向光刻技术（ILT），通过深度学习和大数据对光刻制程精确建模，优化工艺窗口，确保良率；同时基于HPO的整体设计理念具有上下游的可扩展性，无缝连接设计和制造，实现芯片良率的显著提升 SEpA-i系列电子束缺陷检测设备（EBI），面向300mm硅片的主流工艺制程。 SEpA-c系列电子束关键尺寸量测设备（CD-SEM），面向150mm/200mm/300mm硅片工艺制程。 PanGen Sim严格光刻仿真软件PanGen Sim严格光刻仿真软件PanGen Sim采用物理模型对光刻过程进行建模，精确模拟光刻工艺，帮助光刻工艺工程师进行新技术节点研发和改进产品工艺，同时大大减少研发成本
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Kingsemi 芯源微电子沈阳芯源微电子设备股份有限公司 成立于2002年，是由中科院沈阳自动化研究所发起创建的国家高新技术企业，专业从事半导体生产设备的研发、生产、销售与服务，致力于为客户提供半导体装备与工艺整体解决方案。 上海芯源微主要开展28nm及以下高端工艺技术节点的集成电路光刻工艺涂胶显影设备、化学清洗设备及其核心零部件研发及产业化，打造更高技术节点半导体设备，更好服务前道用户。
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SZTU 微纳加工中心平台特色平台服务，光刻工艺设备和键合工艺设备，薄膜工艺设备，离子注入/退火设备和干法刻蚀工艺设备，湿法刻蚀工艺和后道工艺设备，测量表征设备，外延工艺设备，微纳加工中心工艺模块
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OEIC 光电子先导院）等化合物半导体材料的光刻、刻蚀、薄膜制备等关键工艺能力，是集研发、中试、检测等全流程技术服务于一体的光电子芯片共性技术平台。 团队带头人拥有17年的集成电路行业经历，在6英寸、8英寸、12英寸集成电路生产线负责工艺管理工作，熟悉从8μm到65nm制程，工艺技术及管理经验丰富。 共同研发流程：接到需求——根据工艺或产品需制定开发计划——关键节点的工艺复盘与品质认定——交付。 研发定制晶圆代工单步工艺代工光刻工艺接触式光刻最小图形尺寸：1μm，套刻精度：±0.5μm步进式光刻最小图形尺寸：0.5μm，套刻精度：±0.1μm金属薄膜工艺、介质薄膜工艺、蚀刻工艺、化学工艺、减薄工艺 、激光划片成套工艺代工VCSEL器件工艺、GaAs功率器件工艺定制工艺代工我们可根据您的工艺具体需求，进行定制化的代工，请填写下面的信息，我们会尽快与您取得联系。
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iRay 奕瑞科技这两个元件均采用非晶硅制造而成，通过光刻工艺安装在大面积玻璃基板上。柔性传感器用于 X 射线成像的柔性图像传感器由二维结构组成，其中 TFT和光电二极管均安装在柔性基板。
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NIL Technology （NILT）我们对纳米光刻工艺有着深刻的技术理解，并在最先进的硅处理洁净室中开发制造产品。通过与 NILT 合作，您可以确保卓越是我们始终努力实现的价值。确保未来“卓越源于我们员工的热情和技能。 我们致力于提供最高质量的产品和工艺。质量是确保公司成功的关键。我们承诺继续倾听产品用户的意见，了解和理解他们的需求，并及时实施可持续的运营改进。
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