芯源微浸没式高产能涂胶显影机达量产指标
近日,芯源微在接受机构调研时表示,此前公司首台浸没式高产能涂胶显影机已顺利运付客户现场,并完成了各项工艺验证及光刻机联机产能验证。机台与国际主流光刻机联机作业,完成了客户端十余款光阻、多层layer量产验证,数据均达到客户量产指标。
据悉,浸没式高产能涂胶显影机与去年年底发布,标志着公司在前道涂胶显影领域实现了对28nm及以上所有工艺节点的全覆盖,即可实现全面国产替代。芯源微前道设计部总监、浸没式机台主设计师程虎曾表示,作为芯源微自主开发的第三代机型,该设备具有高产能、高工艺能力、高洁净度、高扩展性和易维护性等优势。
查看全文
作者最近更新
-
总投资20亿元,泽石固态硬盘模组及芯片封测生产基地签约落户国家集成电路设计西安产业化基地2024-01-10
-
上海交大无锡光子芯片研究院光子芯片中试线首批设备入场国家集成电路设计西安产业化基地2024-01-10
-
和硕拟斥资1.2亿美元在印度设立第二座工厂国家集成电路设计西安产业化基地2024-01-11
评论0条评论