芯源微浸没式高产能涂胶显影机达量产指标

国家集成电路设计西安产业化基地 20230314

  • 国产替代
  • 28nm工艺

近日,芯源微在接受机构调研时表示,此前公司首台浸没式高产能涂胶显影机已顺利运付客户现场,并完成了各项工艺验证及光刻机联机产能验证。机台与国际主流光刻机联机作业,完成了客户端十余款光阻、多层layer量产验证,数据均达到客户量产指标。

据悉,浸没式高产能涂胶显影机与去年年底发布,标志着公司在前道涂胶显影领域实现了对28nm及以上所有工艺节点的全覆盖,即可实现全面国产替代。芯源微前道设计部总监、浸没式机台主设计师程虎曾表示,作为芯源微自主开发的第三代机型,该设备具有高产能、高工艺能力、高洁净度、高扩展性和易维护性等优势。

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