芯上微装AST6200步进光刻机赢得头部客户批量订单
芯上微装AST6200步进光刻机赢得头部客户批量订单
上海芯上微装科技股份有限公司（AMIES）近日宣布，其自主研发的350nm步进投影光刻机AST6200已成功通过国内化合物半导体领域领先客户的工艺验证，并获得批量重复订单。
该设备适用于多种先进制程场景，包括功率器件、射频前端、光电子芯片以及Micro LED新型显示等应用领域。
AST6200配备了高性能投影物镜和先进的照明系统，具备稳定的350nm高分辨率图形化能力，可支持Si、SiC、GaN、GaAs、InP、蓝宝石等多种衬底材料的光刻作业。其高精度对准系统确保多层图形之间的精确套刻，从而显著提升器件良率。此外，设备采用高亮度光源、高速基底传输系统和高动态运动平台，有效提升单位时间内的产出效率，帮助客户降低单颗芯片的综合拥有成本（COO）。
设备还引入了创新的调焦调平系统，能够稳定测量透明、半透明、不透明及大台阶等多种基底材料，确保在复杂衬底条件下实现高质量曝光。平边对准与背面对准模块可满足特殊晶向解理和键合片对位等复杂工艺需求。AST6200支持2英寸至8英寸多种规格基片，兼容平边、双平边、Notch等主流基底类型，为产线切换提供高度灵活性。
值得注意的是，AST6200光刻机搭载了芯上微装自主研发的全栈式软件控制系统，覆盖从底层驱动到上层工艺管理的全流程，实现100%自主可控。
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